AlNi Alloy sputtering Target High Purity Tinrin Film PVD aso Aṣa Ṣe

Aluminiomu nickel alloy sputtering ibi-afẹde jẹ iṣelọpọ nipasẹ ọna yo igbale ati irin-agbara agbara. Dapọ Aluminiomu ati Nickel ni iye pataki lati pese ingot simẹnti AlNi. Ingot simẹnti ti wa ni ge lati ṣe apẹrẹ ibi-afẹde ti o fẹ. O ni aitasera giga, iwọn ọkà ti a ti tunṣe ati microstructure isokan, laisi puff gaasi tabi awọn pores.

Ni ibamu si idapọ ti o dara julọ ti ibora ati ohun elo sobusitireti, ibora AlNi ni iṣẹ ṣiṣe to dara labẹ 700 ℃. Bayi ibi-afẹde sputtering AlNi ni lilo lọpọlọpọ ni awọn aṣọ wiwọ sooro, pẹlu awọn irinṣẹ gige, awọn apẹrẹ, adaṣe ati awọn ile-iṣẹ ikole.

Awọn ohun elo Pataki Ọlọrọ jẹ Olupese ti Ifojusi Sputtering ati pe o le gbejade Awọn ohun elo Aluminiomu nickel Sputtering gẹgẹbi awọn pato awọn alabara. Fun alaye diẹ sii, jọwọ kan si wa.