CrAl Alloy sputtering Target High Purity Tinrin Fiimu PVD Iso Aṣa Ṣe
Aluminiomu Chromium
Ṣiṣẹda ti Awọn ibi-afẹde Sputtering Chromium Aluminiomu ni awọn igbesẹ wọnyi:
1. Powder lilọ ati dapọ.
2. Gbona isostatic titẹ itọju lati gba ologbele-pari awọn ọja.
3. Ṣiṣe awọn ohun elo ti o ni inira chromium aluminiomu alloy sputtering afojusun ohun elo lati gba ohun elo chromium aluminiomu alloy sputtering afojusun ohun elo.
Lakoko ilana ifisilẹ ti awọn ibi-afẹde CrAl, awọ Aluminiomu-Chrom-Nitrid (AlCrN) lile kan ti ṣẹda. Iboju yii ṣe afihan líle giga ati awọn ohun-ini resistance ifoyina paapaa ni iwọn otutu giga. Awọn gige le ṣiṣẹ ni awọn kikọ sii giga lati mu iṣelọpọ pọ si ati igbega didara nigba lilo awọn ẹrọ CNC.
Awọn ibi-afẹde AlCr aṣoju wa ati awọn ohun-ini wọn
Kr-70Alni% | Kr-60Alni% | Kr-50Alni% | |
Mimo (%) | 99.8 / 99.9 / 99.95 | 99.8 / 99.9 / 99.95 | 99.8 / 99.9 / 99.95 |
iwuwo(g/cm3) | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
Gojo Iwọn(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
Ilana | HIP | HIP | HIP |
Awọn ohun elo Pataki ti Ọla ṣe amọja ni Ṣiṣejade Ifojusi Sputtering ati pe o le gbejade Awọn ohun elo Aluminiomu Chromium sputtering gẹgẹbi awọn pato awọn alabara. Awọn ọja wa ẹya awọn ohun-ini ẹrọ ti o dara julọ, ọna isokan, dada didan laisi ipinya, awọn pores tabi awọn dojuijako. Fun alaye diẹ sii, jọwọ kan si wa.