איצט מער און מער יוזערז פֿאַרשטיין די טייפּס פון טאַרגאַץ אוןזייַן אַפּלאַקיישאַנז, אָבער די סאַבדיוויזשאַן פון עס קען נישט זיין זייער קלאָר. איצט לאמירRSM ינזשעניר ייַנטיילן מיט אירעטלעכע ינדאַקשאַן פון מאַגנטראָן ספּאַטערינג טאַרגאַץ.
ספּוטערינג ציל: מעטאַל ספּוטערינג קאָוטינג ציל, צומיש ספּוטערינג קאָוטינג ציל, סעראַמיק ספּוטערינג קאָוטינג ציל, באָרידע סעראַמיק ספּוטערינג ציל, קאַרבידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, פלאָרייד סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, ניטריד סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, אַקסייד סעראַמיק ציל, סעלענידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, סילאַסייד סעראַמיק ציל, סולפידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, טעללורידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל, אנדערע סעראַמיק טאַרגאַץ, קראָומיאַם דאָפּט סיליציום אַקסייד סעראַמיק ציל (CR SiO), ינדיום פאָספידע ציל (ינפּ), פירן אַרסענידע ציל (פּבאַס), ינדיום אַרסענידע ציל (ינאַס).
מאַגנעטאָן ספּוטערינג איז בכלל צעטיילט אין צוויי טייפּס: דק ספּוטערינג און רף ספּוטערינג. דער פּרינציפּ פון דק ספּוטערינג עקוויפּמענט איז פּשוט, און די קורס איז אויך שנעל ווען ספּוטערינג מעטאַל. רף ספּאַטערינג איז וויידלי געניצט. אין אַדישאַן צו ספּוטטער קאַנדאַקטיוו דאַטן, עס קענען אויך ספּוטטער ניט-קאַנדאַקטיוו דאַטן. די ספּאַטערינג ציל קענען אויך זיין געניצט פֿאַר ריאַקטיוו ספּאַטערינג צו צוגרייטן קאַמפּאַונד דאַטן אַזאַ ווי אַקסיידז, ניטרידעס און קאַרבידעס. אויב די רף אָפטקייַט ינקריסיז, עס וועט ווערן מייקראַווייוו פּלאַזמע ספּוטערינג. דערווייַל, עלעקטראָן סיקלאָטראָן רעזאַנאַנס (ECR) מייקראַווייוו פּלאַזמע ספּוטערינג איז קאַמאַנלי געניצט.
פּאָסטן צייט: מאי 26-2022