דער ציל האט פילע פאַנגקשאַנז און אַ ברייט אַפּלאַקיישאַנז אין פילע פעלדער. די נייַע ספּאַטערינג ויסריכט כּמעט ניצט שטאַרק מאַגנאַץ צו ספּיראַליש די עלעקטראָנס צו פאַרגיכערן די ייאַנאַזיישאַן פון אַרגאַן אַרום דעם ציל, וואָס ינקריסאַז די מאַשמאָעס פון צונויפשטויס צווישן די ציל און אַרגאָן ייאַנז,
פאַרגרעסערן די ספּיטערינג קורס. אין אַלגעמיין, דק ספּוטערינג איז געניצט פֿאַר מעטאַל קאָוטינג, בשעת רף קאָמוניקאַציע ספּוטערינג איז געניצט פֿאַר ניט-קאַנדאַקטיוו סעראַמיק מאַגנעטיק מאַטעריאַלס. די גרונט פּרינציפּ איז צו נוצן שייַנען אָפּזאָגן צו שלאָגן אַרגאָן (AR) ייאַנז אויף די ייבערפלאַך פון די ציל אין וואַקוום, און די קיישאַנז אין די פּלאַזמע וועט פאַרגיכערן צו קאַמיש צו די נעגאַטיוו ילעקטראָוד ייבערפלאַך ווי די ספּלאַשעד מאַטעריאַל. דעם פּראַל וועט מאַכן די מאַטעריאַל פון די ציל פליען אויס און אַוועקלייגן אויף די סאַבסטרייט צו פאָרעם אַ פילם.
אין אַלגעמיין, עס זענען עטלעכע פֿעיִקייטן פון פילם קאָוטינג ניצן די ספּיטערינג פּראָצעס:
(1) מעטאַל, צומיש אָדער ינסאַלייטער קענען זיין געמאכט אין דין פילם דאַטן.
(2) אונטער צונעמען באַשטעטיקן טנאָים, דער פילם מיט דער זעלביקער זאַץ קענען זיין געמאכט פון קייפל און דיסאָרדערד טאַרגאַץ.
(3) דער געמיש אָדער קאַמפּאַונד פון ציל מאַטעריאַל און גאַז מאַלאַקיולז קענען זיין געמאכט דורך אַדינג זויערשטאָף אָדער אנדערע אַקטיוו גאַסאַז אין די אָפּזאָגן אַטמאָספער.
(4) די ציל אַרייַנשרייַב קראַנט און ספּאַטערינג צייט קענען זיין קאַנטראָולד, און עס איז גרינג צו באַקומען הויך-פּינטלעכקייַט פילם גרעב.
(5) עס איז וווילטויק פֿאַר די פּראָדוקציע פון אנדערע פילמס.
(6) די ספּאַטערד פּאַרטיקאַלז זענען קוים אַפעקטאַד דורך ערלעכקייט, און די ציל און סאַבסטרייט קענען זיין אָרגאַניזירט פרילי.
פּאָסטן צייט: מאי 24-2022