Miếng thuốc diệt silic vonfram

Vonfram silicide WSi2 được sử dụng làm vật liệu sốc điện trong vi điện tử, shunt trên dây polysilicon, lớp phủ chống oxy hóa và lớp phủ dây điện trở. Chất silicide vonfram được sử dụng làm vật liệu tiếp xúc trong vi điện tử, có điện trở suất 60-80μΩcm. Nó được hình thành ở 1000°C. Nó thường được sử dụng làm shunt cho các đường polysilicon để tăng độ dẫn và tăng tốc độ tín hiệu. Lớp Silicide vonfram có thể được điều chế bằng cách lắng đọng hơi hóa học, chẳng hạn như lắng đọng hơi. Sử dụng monosilane hoặc dichlorosilane và vonfram hexafluoride làm khí nguyên liệu. Màng lắng đọng không có tính chất cân bằng hóa học và cần phải ủ để chuyển thành dạng cân bằng hóa học dẫn điện tốt hơn.

Chất silic vonfram có thể thay thế màng vonfram trước đó. Chất tẩy silic vonfram cũng được sử dụng làm lớp rào cản giữa silicon và các kim loại khác.

Chất silicide vonfram cũng rất có giá trị trong các hệ thống vi cơ điện tử, trong đó chất silicide vonfram chủ yếu được sử dụng làm màng mỏng để sản xuất vi mạch. Với mục đích này, màng chất diệt silic vonfram có thể được khắc bằng plasma bằng cách sử dụng chất diệt silic chẳng hạn.

Vật liệu đặc biệt phong phú chuyên sản xuất mục tiêu phún xạ và có thể sản xuất thuốc diệt silic vonframmiếngtheo thông số kỹ thuật của khách hàng. Để biết thêm thông tin, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.