Bán buôn Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao TiSi Mục tiêu được sản xuất theo yêu cầu Nhà sản xuất và nhà cung cấp

Titan silic

TiSi phún xạ mục tiêu Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao được thực hiện tùy chỉnh Hình ảnh nổi bật

Mô tả ngắn gọn:

Loại	Mục tiêu phún xạ hợp kim
Công thức hóa học	TiSi
Thành phần	Titan silic
độ tinh khiết	99,7%,99,9%,99,95%
Hình dạng	Tấm, Mục tiêu cột, cực âm hồ quang, Tùy chỉnh
Quy trình sản xuất	Nóng chảy chân không, PM
Kích thước có sẵn	L<2000mm,W<200mm

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Băng hình

Mô tả mục tiêu phún xạ Titan Silicon

Lớp phủ Nitride siêu cứng có thể được hình thành khi Titanium Silicon kết hợp với khí Nitơ trong quá trình lắng đọng. Thành phần Silicon đảm bảo khả năng chống oxy hóa cao, trong khi đó độ cứng của Titanium. Nó có thể thể hiện đặc tính chống mài mòn tuyệt vời ngay cả ở nhiệt độ cao. Dụng cụ cắt được phủ bởi lớp phủ TiSiN là lý tưởng cho phay cứng và tốc độ cao, đặc biệt là cắt khô và có thể xử lý một số siêu hợp kim, như hợp kim nền Niken và Titan.

Các mục tiêu TiSi điển hình của chúng tôi và đặc tính của chúng

	Ti-15SiTại%	Ti-20SiTại%	Ti-25SiTại%	Ti-30SiTại%
Độ tinh khiết (%)	99,9	99,9	99,9	99,9
Tỉ trọng（g/cm³)	4.4	4.35	4.3	4,25
Gcơn mưa Kích cỡ(µm)	200/100	100	100	100
Quá trình	VAR/HIP	HÔNG	HÔNG	HÔNG

Công ty chúng tôi có nhiều năm kinh nghiệm sản xuất mục tiêu phún xạ cho dụng cụ cắt khuôn. Ti-15Si % được chế tạo bằng phương pháp nấu chảy chân không, có cấu trúc đồng nhất, độ tinh khiết cao và hàm lượng khí thấp. Ngoài ra, chúng tôi còn cung cấp Ti-15Si theo tỷ lệ %, Ti-20Si theo tỷ lệ % và Ti-25Si theo tỷ lệ % được sản xuất bằng phương pháp luyện kim điện. Mục tiêu TiSi của chúng tôi có đặc tính cơ học tuyệt vời, khiến chúng không dễ bị nứt và hư hỏng cấu trúc.

Bao bì mục tiêu phún xạ Titan Silicon

Mục tiêu phún xạ Titanium Silicon của chúng tôi được gắn thẻ và dán nhãn rõ ràng bên ngoài để đảm bảo nhận dạng và kiểm soát chất lượng hiệu quả. Cần phải hết sức cẩn thận để tránh mọi hư hỏng có thể xảy ra trong quá trình bảo quản hoặc vận chuyển.

Nhận liên hệ

Mục tiêu phún xạ Titanium Silicon của RSM có độ tinh khiết cực cao và đồng nhất. Chúng có sẵn ở nhiều dạng, độ tinh khiết, kích cỡ và giá cả khác nhau. Chúng tôi chuyên sản xuất vật liệu phủ màng mỏng có độ tinh khiết cao với hiệu suất tuyệt vời cũng như mật độ cao nhất có thể và kích thước hạt trung bình nhỏ nhất có thể để sử dụng trong lớp phủ khuôn, trang trí, phụ tùng ô tô, kính Low-E, mạch tích hợp bán dẫn, màng mỏng điện trở, hiển thị đồ họa, hàng không vũ trụ, ghi từ tính, màn hình cảm ứng, pin mặt trời màng mỏng và các ứng dụng lắng đọng hơi vật lý (PVD) khác. Vui lòng gửi cho chúng tôi yêu cầu về giá hiện tại của mục tiêu phún xạ và các vật liệu lắng đọng khác chưa được liệt kê.