Mục tiêu Yttrium có độ tinh khiết cao - Thành viên quan trọng của lớp phủ PVD

Mục tiêu phún xạ yttri là gì?
Mục tiêu yttrium chủ yếu được tạo ra bởi mục tiêu phún xạ yttrium nguyên tố kim loại, bởi vì nguyên tố yttrium (Y) là một trong những nguyên tố kim loại đất hiếm, vì vậy mục tiêu yttrium còn được gọi là mục tiêu đất hiếm.
Mục tiêu Yttrium chủ yếu được sử dụng trong công nghệ lắng đọng phún xạ. Công nghệ lắng đọng phún xạ là một trong những công nghệ lắng đọng hơi vật lý (PVD) và là một trong những công nghệ chính để chế tạo vật liệu màng mỏng điện tử. Bằng cách bắn phá bề mặt mục tiêu bằng các hạt năng lượng cao (chẳng hạn như ion hoặc chùm electron), các nguyên tử hoặc phân tử mục tiêu sẽ được bắn ra ngoài và lắng đọng trên chất nền khác để tạo thành màng hoặc lớp phủ mong muốn.
Mục tiêu yttri chỉ đơn giản là nguyên liệu gốc của màng hoặc lớp phủ mong muốn được chuẩn bị bằng công nghệ PVD.

Là gìcáimục tiêu phún xạ yttrium dùng để làm gì?

Mục tiêu Yttrium có nhiều ứng dụng trong một số lĩnh vực, sau đây là các lĩnh vực ứng dụng chính:

1. Vật liệu bán dẫn: Trong ngành bán dẫn, mục tiêu yttrium được sử dụng để sản xuất các lớp cụ thể trong vật liệu bán dẫn hoặc linh kiện điện tử, chẳng hạn như bóng bán dẫn, mạch tích hợp, v.v.
2. Lớp phủ quang học: Trong lĩnh vực quang học, mục tiêu yttrium có thể được sử dụng để chế tạo lớp phủ quang học có chiết suất cao và tốc độ tán xạ thấp, đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất các thiết bị quang học như laser và bộ lọc quang học.
3. Lắng đọng màng mỏng: Mục tiêu yttrium chiếm một vị trí quan trọng trong công nghệ lắng đọng màng mỏng, độ tinh khiết cao, độ ổn định tốt và các đặc tính vật lý và hóa học cụ thể khiến nó trở thành lựa chọn lý tưởng để điều chế nhiều loại vật liệu màng mỏng. Những vật liệu màng mỏng này có nhiều ứng dụng trong các lĩnh vực quang học, điện tử, từ tính và các lĩnh vực khác.
4. Lĩnh vực y tế: mục tiêu yttrium có những ứng dụng quan trọng trong y học bức xạ, chẳng hạn như nguồn tia X và tia gamma, chẩn đoán hình ảnh (chẳng hạn như chụp CT) và xạ trị. Ngoài ra, các đồng vị cụ thể của yttri (như Y-90) cũng có thể được sử dụng trong dược phẩm phóng xạ để điều trị mục tiêu các bệnh ung thư cụ thể.
5. Công nghiệp năng lượng hạt nhân: Trong các lò phản ứng hạt nhân, mục tiêu yttrium được sử dụng làm vật liệu đòn bẩy để kiểm soát tốc độ và độ ổn định của các phản ứng hạt nhân do khả năng hấp thụ neutron tuyệt vời của chúng.

Lưu ý: Vì các yêu cầu về hiệu suất của mục tiêu yttrium trong các lĩnh vực ứng dụng khác nhau có thể khác nhau nên cần phải chọn mục tiêu phù hợp theo tình hình thực tế trong ứng dụng cụ thể. (Chẳng hạn như độ tinh khiết cụ thể, tỷ lệ thành phần, kích thước, hình dạng, v.v., được tùy chỉnh theo yêu cầu cụ thể.)

Công nghệ sản xuất mục tiêu phún xạ yttrium?

1. Chuẩn bị bột yttrium 2. HIP, ép khuôn 3. Thiêu kết ở nhiệt độ cao 4. Xử lý tiếp theo (Cắt, Đánh bóng, v.v.) 5. Làm sạch và đóng gói

Lưu ý: Bên cạnh các bước cơ bản trên, tùy theo phương pháp chuẩn bị cụ thể và nhu cầu ứng dụng, mục tiêu phún xạ yttrium cũng có thể bao gồm các bước và công nghệ khác, chẳng hạn như phương pháp phún xạ, phương pháp nấu chảy chân không, v.v. Các phương pháp này giúp điều chỉnh và tối ưu hóa hơn nữa hiệu suất và cấu trúc của vật liệu mục tiêu.

Làm thế nào để chọn mục tiêu phún xạ chất lượng cao?

Sau đây liệt kê 7 yếu tố quan trọng để lựa chọn mục tiêu phún xạ chất lượng cao:

1.Xin chàođộ tinh khiết gh

Mục tiêu có độ tinh khiết cao có đặc tính vật liệu tốt hơn và tính chất vật lý và hóa học ổn định hơn, điều này rất cần thiết để đảm bảo chất lượng và hiệu suất của lớp phủ phún xạ. Các yêu cầu về độ tinh khiết cụ thể phải được xác định theo kịch bản ứng dụng, một số kịch bản ứng dụng đơn giản không cần theo đuổi độ tinh khiết cực cao để không làm tăng chi phí không cần thiết. Những gì phù hợp với bạn là tốt nhất.

2.Sự ổn định

Độ ổn định của mục tiêu cũng quan trọng không kém, có thể tránh được tổn thất vật liệu hoặc dao động hiệu suất trong quá trình phún xạ. Vì vậy, trong quá trình lựa chọn, người ta chọn sản phẩm được xử lý đặc biệt hoặc có độ ổn định tốt.

3.Kích thước và hình dạng

Kích thước và hình dạng của mục tiêu phún xạ phải được lựa chọn theo yêu cầu cụ thể của thiết bị phủ để thích ứng với các quy trình phún xạ và nhu cầu sản xuất khác nhau. Đảm bảo rằng mục tiêu phù hợp với thiết bị sẽ làm tăng hiệu quả phún xạ và giảm chất thải.

4.Tỉ trọng

Mật độ là một trong những chỉ số quan trọng để đo lường chất lượng của vật liệu mục tiêu. Vật liệu mục tiêu mật độ cao có thể đảm bảo hiệu ứng phún xạ tốt hơn. Khi lựa chọn, bạn nên chú ý đến dữ liệu mật độ của mục tiêu và cố gắng chọn những sản phẩm có mật độ cao hơn.

5. Độ chính xác xử lý

Độ chính xác xử lý của mục tiêu cũng là một trong những yếu tố cần được xem xét. Nói chung, độ chính xác xử lý của mục tiêu được yêu cầu phải nằm trong phạm vi ± 0,1mm để đảm bảo tính ổn định của quá trình phún xạ và tính đồng nhất của chất lượng lớp phủ.

6. Yêu cầu đặc biệt

Đối với một số tình huống ứng dụng đặc biệt, chẳng hạn như nhu cầu về độ truyền ánh sáng cao, độ hấp thụ ánh sáng thấp của mục tiêu (lớp phủ quang học) hoặc độ dẫn điện cao, độ ổn định cao của mục tiêu (trường điện tử), nên được chọn theo nhu cầu cụ thể của mục tiêu tương ứng kiểu.

7.Chọn nhà sản xuất hoặc nhà cung cấp chuyên nghiệp.