Mục tiêu phún xạ FeTa Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao được thực hiện tùy chỉnh

Mục tiêu phún xạ Iron Tantalum của RSM có độ tinh khiết và đồng nhất cực cao. Chúng có sẵn ở nhiều dạng, độ tinh khiết, kích cỡ và giá cả khác nhau.

Chúng tôi có thể cung cấp nhiều dạng hình học khác nhau: ống, cực âm hồ quang, mặt phẳng hoặc tùy chỉnh. Sản phẩm của chúng tôi có đặc tính cơ học tuyệt vời, cấu trúc vi mô đồng nhất, bề mặt được đánh bóng không có sự phân tách, lỗ chân lông hoặc vết nứt.

Chúng tôi chuyên sản xuất vật liệu phủ màng mỏng có độ tinh khiết cao với hiệu suất tuyệt vời cũng như mật độ cao nhất có thể và kích thước hạt trung bình nhỏ nhất có thể để sử dụng trong lớp phủ khuôn, trang trí, phụ tùng ô tô, kính Low-E, mạch tích hợp bán dẫn, màng mỏng điện trở, hiển thị đồ họa, hàng không vũ trụ, ghi từ tính, màn hình cảm ứng, pin mặt trời màng mỏng và các ứng dụng lắng đọng hơi vật lý (PVD) khác. Vui lòng gửi cho chúng tôi yêu cầu về giá hiện tại của mục tiêu phún xạ và các vật liệu lắng đọng khác chưa được liệt kê.