AlCu Sputtering Target Yuqori tozalikdagi yupqa plyonkali PVD qoplamasi maxsus tayyorlangan

Alyuminiy mis püskürtme maqsadi yuqori qattiqligi, kuchlanish kuchi va engilligi tufayli bir qator sanoat va ilovalar uchun juda mos keladi. Odatda 1-3% mis tarkibiga ega va alyuminiy bilan o'xshash kimyoviy xususiyatlarga ega. AlCu yuqori mexanik xususiyatlarga ega, mukammal ishlov berish qobiliyati va yuqori haroratga mos keladi, shuning uchun u yuqori samarali alyuminiy qotishmasi uchun mos material bo'lishi mumkin. Yuqori tozalikdagi AlCu qotishma püskürtme maqsadi yarimo'tkazgich va elektron funktsional komponentlardan sanoatning keng sohalarida qo'llanilishi mumkin.

Rich Special Materials Sputtering Target ishlab chiqarishga ixtisoslashgan va mijozlarning talablariga muvofiq alyuminiy xromli sputtering materiallarini ishlab chiqarishi mumkin. Mahsulotlarimiz mukammal mexanik xususiyatlar, bir hil tuzilish, ajralishlar, teshiklar yoki yoriqlarsiz sayqallangan sirtga ega. Qo'shimcha ma'lumot olish uchun biz bilan bog'laning.