پھٹنے کا ہدف – نکل کرومیم ہدف

ہدف پتلی فلموں کی تیاری کے لیے کلیدی بنیادی مواد ہے۔ اس وقت، عام طور پر استعمال ہونے والے ہدف کی تیاری اور پروسیسنگ کے طریقوں میں بنیادی طور پر پاؤڈر میٹالرجی ٹیکنالوجی اور روایتی الائے سمیلٹنگ ٹیکنالوجی شامل ہیں، جبکہ ہم زیادہ تکنیکی اور نسبتاً نئی ویکیوم سمیلٹنگ ٹیکنالوجی کو اپناتے ہیں۔

نکل-کرومیم ٹارگٹ میٹریل کی تیاری کا مقصد نکل اور کرومیم کو مختلف طہارت کے خام مال کے طور پر صارفین کی مختلف طہارت کی ضروریات کے مطابق منتخب کرنا اور سمیلٹنگ کے لیے ویکیوم انڈکشن سمیلٹنگ فرنس کا استعمال کرنا ہے۔ سمیلٹنگ کے عمل میں عام طور پر سمیلٹنگ چیمبر میں ویکیوم نکالنا شامل ہوتا ہے – آرگن گیس واشنگ فرنس – ویکیوم ایکسٹرکشن – انرٹ گیس پروٹیکشن – سمیلٹنگ الائےنگ – ریفائننگ – کاسٹنگ – کولنگ اور ڈیمولڈنگ۔

ہم کاسٹ انگوٹ کی ساخت کی جانچ کریں گے، اور جو انگوٹ ضروریات کو پورا کرتے ہیں ان پر اگلے مرحلے میں کارروائی کی جائے گی۔ اس کے بعد نکل کرومیم انگوٹ کو زیادہ یکساں رولڈ پلیٹ حاصل کرنے کے لیے جعلسازی اور رول کیا جاتا ہے، اور پھر رولڈ پلیٹ کو کسٹمر کی ضروریات کے مطابق نکل کرومیم ہدف حاصل کرنے کے لیے مشین کیا جاتا ہے تاکہ گاہک کی ضروریات کو پورا کیا جا سکے۔