ٹارگٹ میٹریل کو پھٹنے کی اہم خصوصیات

ہمیں اب ہدف سے بہت واقف ہونا چاہیے، اب ٹارگٹ مارکیٹ بھی بڑھ رہی ہے، RSM کے ایڈیٹر کی طرف سے شیئر کیے گئے ٹارگٹ کی اہم کارکردگی درج ذیل ہے

　　طہارت

ٹارگٹ میٹریل کی پاکیزگی کارکردگی کے اہم اشاریہ جات میں سے ایک ہے، کیونکہ ٹارگٹ میٹریل کی پاکیزگی پتلی فلم کی کارکردگی پر بہت زیادہ اثر رکھتی ہے۔ تاہم، عملی استعمال میں، ہدف کے مواد کی پاکیزگی کی ضروریات ایک جیسی نہیں ہیں۔ مثال کے طور پر، مائیکرو الیکٹرانکس انڈسٹری کی تیز رفتار ترقی کے ساتھ، سلیکون چپ کا سائز 6″، 8″ سے 12″ تک تیار کیا گیا ہے، اور وائرنگ کی چوڑائی 0.5um سے کم کر کے 0.25um، 0.18um یا یہاں تک کہ 0.13um تک کر دی گئی ہے۔ اس سے پہلے، 99.995% ہدف والے مواد کی پاکیزگی 0.35umIC کی عمل کی ضروریات کو پورا کر سکتی ہے۔ 0.18um لائنوں کی تیاری کے لیے ہدف کے مواد کی پاکیزگی 99.999% یا اس سے بھی 99.9999% ہے۔

　　ناپاکی کا مواد

ٹارگٹ ٹھوس میں موجود نجاست اور چھیدوں میں آکسیجن اور پانی کے بخارات فلم جمع کرنے کے اہم آلودگی کے ذرائع ہیں۔ مختلف مقاصد کے لیے ہدف والے مواد کی مختلف ناپاکی والے مواد کے لیے مختلف تقاضے ہوتے ہیں۔ مثال کے طور پر، سیمی کنڈکٹر انڈسٹری میں استعمال ہونے والے خالص ایلومینیم اور ایلومینیم کے مرکب اہداف میں الکلی دھاتوں اور تابکار عناصر کے مواد کے لیے خصوصی تقاضے ہوتے ہیں۔

　　کثافت

ہدف کے ٹھوس میں سوراخ کو کم کرنے اور اسپٹرنگ فلم کی کارکردگی کو بہتر بنانے کے لیے، عام طور پر ہدف کی اعلی کثافت کی ضرورت ہوتی ہے۔ ہدف کی کثافت نہ صرف پھٹنے کی شرح کو متاثر کرتی ہے بلکہ فلم کی برقی اور نظری خصوصیات کو بھی متاثر کرتی ہے۔ ہدف کی کثافت جتنی زیادہ ہوگی، فلم کی کارکردگی اتنی ہی بہتر ہوگی۔ اس کے علاوہ، ہدف کی کثافت اور طاقت میں اضافہ ہدف کو تھوکنے کے عمل میں تھرمل تناؤ کو بہتر طریقے سے برداشت کرتا ہے۔ کثافت بھی ہدف کے کلیدی کارکردگی کے اشاریہ جات میں سے ایک ہے۔

　　اناج کا سائز اور اناج کے سائز کی تقسیم

ہدف عام طور پر پولی کرسٹل لائن ہوتا ہے جس میں دانوں کا سائز مائکرو میٹر سے ملی میٹر تک ہوتا ہے۔ اسی ہدف کے لیے، چھوٹے دانے والے ہدف کے پھٹنے کی شرح بڑے دانے والے ہدف کے مقابلے میں تیز ہے۔ چھوٹے اناج کے سائز کے فرق (یکساں تقسیم) کے ساتھ اسپٹرنگ ہدف کے ذریعے جمع فلموں کی موٹائی کی تقسیم زیادہ یکساں ہے۔