بخارات کی کوٹنگ اور اسپٹرنگ کوٹنگ کے درمیان فرق

جیسا کہ ہم سب جانتے ہیں، ویکیوم وانپیکرن اور آئن سپٹرنگ عام طور پر ویکیوم کوٹنگ میں استعمال ہوتے ہیں۔ بخارات کی کوٹنگ اور اسپٹرنگ کوٹنگ میں کیا فرق ہے؟ اگلا، RSM کے تکنیکی ماہرین ہمارے ساتھ اشتراک کریں گے۔

ویکیوم ایوپوریشن کوٹنگ کا مطلب ہے کہ مواد کو ایک خاص درجہ حرارت پر بخارات بنانے کے لیے مزاحمتی حرارت یا الیکٹران بیم اور لیزر بمباری کے ذریعے ایسے ماحول میں گرم کرنا ہے جس کی ویکیوم ڈگری 10-2Pa سے کم نہ ہو، تاکہ مالیکیولز کی تھرمل کمپن انرجی یا مواد میں ایٹم سطح کی پابند توانائی سے زیادہ ہیں، تاکہ انووں یا ایٹموں کی ایک بڑی تعداد بخارات بنتے ہیں یا سرفہرست ہوتے ہیں، اور فلم بنانے کے لیے سبسٹریٹ پر براہ راست تیز ہوجاتے ہیں۔ آئن اسپٹرنگ کوٹنگ الیکٹرک فیلڈ کے عمل کے تحت گیس خارج ہونے والے آئنوں کی تیز رفتار حرکت کا استعمال کرتی ہے تاکہ ہدف پر کیتھوڈ کے طور پر بمباری کر سکے، تاکہ ہدف سے بچنے کے لیے ایٹم یا مالیکیول چڑھا ہوا ورک پیس کی سطح تک پہنچ جائیں۔ مطلوبہ فلم.

ویکیوم وانپیکرن کوٹنگ کا سب سے عام استعمال شدہ طریقہ مزاحمتی حرارتی نظام ہے، جس میں سادہ ساخت، کم قیمت اور آسان آپریشن کے فوائد ہیں۔ نقصان یہ ہے کہ یہ ریفریکٹری دھاتوں اور اعلی درجہ حرارت سے بچنے والے ڈائی الیکٹرک مواد کے لیے موزوں نہیں ہے۔ الیکٹران بیم ہیٹنگ اور لیزر ہیٹنگ مزاحمتی حرارتی نظام کی کوتاہیوں کو دور کرسکتی ہے۔ الیکٹران بیم ہیٹنگ میں، فوکسڈ الیکٹران بیم کو براہ راست بمباری والے مواد کو گرم کرنے کے لیے استعمال کیا جاتا ہے، اور الیکٹران بیم کی حرکی توانائی حرارت کی توانائی بن جاتی ہے، جس سے مواد بخارات بن جاتا ہے۔ لیزر ہیٹنگ ہائی پاور لیزر کو حرارتی ذریعہ کے طور پر استعمال کرتی ہے، لیکن ہائی پاور لیزر کی قیمت زیادہ ہونے کی وجہ سے، فی الحال اسے صرف چند ریسرچ لیبارٹریوں میں استعمال کیا جا سکتا ہے۔

سپٹرنگ ٹیکنالوجی ویکیوم وانپیکرن ٹیکنالوجی سے مختلف ہے۔ "سپٹرنگ" سے مراد وہ رجحان ہے جس میں چارج شدہ ذرات ٹھوس سطح (ٹارگٹ) پر بمباری کرتے ہیں اور سطح سے ٹھوس ایٹم یا مالیکیول باہر نکلتے ہیں۔ زیادہ تر خارج ہونے والے ذرات جوہری حالت میں ہوتے ہیں، جنہیں اکثر پھٹے ہوئے ایٹم کہا جاتا ہے۔ نشانے پر بمباری کرنے کے لیے استعمال ہونے والے پھٹے ہوئے ذرات الیکٹران، آئن یا غیر جانبدار ذرات ہو سکتے ہیں۔ چونکہ مطلوبہ حرکی توانائی حاصل کرنے کے لیے برقی میدان کے نیچے آئنوں کو تیز کرنا آسان ہے، ان میں سے اکثر آئنوں کو بمباری والے ذرات کے طور پر استعمال کرتے ہیں۔ سپٹرنگ کا عمل گلو ڈسچارج پر مبنی ہے، یعنی سپٹرنگ آئن گیس خارج ہونے سے آتے ہیں۔ مختلف سپٹرنگ ٹیکنالوجیز مختلف گلو ڈسچارج طریقوں کو اپناتی ہیں۔ DC diode sputtering DC گلو ڈسچارج کا استعمال کرتا ہے۔ Triode sputtering گرم کیتھوڈ کی مدد سے ایک چمک خارج ہونے والا مادہ ہے؛ آر ایف سپٹرنگ آر ایف گلو ڈسچارج کا استعمال کرتی ہے۔ Magnetron sputtering ایک چمکدار خارج ہونے والا مادہ ہے جسے کنڈلی مقناطیسی میدان کے ذریعے کنٹرول کیا جاتا ہے۔

ویکیوم وانپیکرن کوٹنگ کے مقابلے میں، سپٹرنگ کوٹنگ کے بہت سے فوائد ہیں۔ مثال کے طور پر، کوئی بھی مادہ اکھڑ سکتا ہے، خاص طور پر عناصر اور مرکبات جن میں زیادہ پگھلنے والے نقطہ اور بخارات کا کم دباؤ ہوتا ہے۔ پھٹی ہوئی فلم اور سبسٹریٹ کے درمیان چپکنے والی اچھی ہے۔ اعلی فلم کثافت؛ فلم کی موٹائی کو کنٹرول کیا جا سکتا ہے اور ریپیٹ ایبلٹی اچھی ہے۔ نقصان یہ ہے کہ سامان پیچیدہ ہے اور اسے ہائی وولٹیج والے آلات کی ضرورت ہوتی ہے۔

اس کے علاوہ، وانپیکرن طریقہ اور sputtering طریقہ کا مجموعہ آئن چڑھانا ہے. اس طریقہ کار کے فوائد یہ ہیں کہ حاصل شدہ فلم میں سبسٹریٹ کے ساتھ مضبوط چپکنے والی ہوتی ہے، اعلی جمع کی شرح اور اعلی فلم کی کثافت ہوتی ہے۔