لوگوں کے معیار زندگی میں بہتری اور سائنس اور ٹیکنالوجی کی مسلسل ترقی کے ساتھ، لوگوں کو لباس مزاحم، سنکنرن مزاحم اور اعلی درجہ حرارت مزاحم سجاوٹ کوٹنگ کی مصنوعات کی کارکردگی کے لئے اعلی اور اعلی ضروریات ہیں. بلاشبہ، کوٹنگ ان اشیاء کے رنگ کو بھی خوبصورت بنا سکتی ہے۔ پھر، الیکٹروپلاٹنگ ٹارگٹ اور سپٹرنگ ٹارگٹ کے علاج میں کیا فرق ہے؟ RSM کے ٹیکنالوجی ڈیپارٹمنٹ کے ماہرین کو آپ کے لیے اس کی وضاحت کرنے دیں۔
الیکٹروپلاٹنگ ہدف
الیکٹروپلٹنگ کا اصول الیکٹرولیٹک ریفائننگ کاپر کے ساتھ مطابقت رکھتا ہے۔ جب الیکٹروپلٹنگ، پلیٹنگ پرت کے دھاتی آئنوں پر مشتمل الیکٹرولائٹ عام طور پر چڑھانا حل تیار کرنے کے لیے استعمال ہوتا ہے۔ پلیٹنگ سلوشن میں چڑھائی جانے والی دھات کی مصنوعات کو ڈبونا اور اسے ڈی سی پاور سپلائی کے منفی الیکٹروڈ کے ساتھ کیتھوڈ کے طور پر جوڑنا؛ لیپت دھات کو اینوڈ کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے اور ڈی سی پاور سپلائی کے مثبت الیکٹروڈ سے منسلک ہوتا ہے۔ جب کم وولٹیج ڈی سی کرنٹ لگایا جاتا ہے، تو اینوڈ میٹل محلول میں گھل جاتی ہے اور کیشن بن کر کیتھوڈ میں چلی جاتی ہے۔ یہ آئن کیتھوڈ پر الیکٹران حاصل کرتے ہیں اور دھات میں کم ہو جاتے ہیں، جو دھات کی مصنوعات پر چڑھایا جاتا ہے۔
ٹارگٹ سپٹرنگ
اصول بنیادی طور پر ہدف کی سطح پر آرگن آئنوں پر بمباری کرنے کے لیے گلو ڈسچارج کا استعمال کرنا ہے، اور ہدف کے ایٹموں کو نکال کر سبسٹریٹ سطح پر جمع کیا جاتا ہے تاکہ ایک پتلی فلم بن سکے۔ پھٹی ہوئی فلموں کی خصوصیات اور یکسانیت بخارات جمع ہونے والی فلموں کی نسبت بہتر ہوتی ہے، لیکن بخارات جمع ہونے والی فلموں کے مقابلے میں جمع کرنے کی رفتار بہت کم ہوتی ہے۔ نئے پھٹنے والے آلات تقریباً مضبوط میگنےٹ استعمال کرتے ہیں تاکہ ہدف کے ارد گرد آرگن کے آئنائزیشن کو تیز کر سکیں، جو ہدف اور آرگن آئنوں کے درمیان تصادم کا امکان بڑھاتا ہے اور پھٹنے کی شرح کو بہتر بناتا ہے۔ زیادہ تر دھاتی چڑھانا والی فلمیں ڈی سی سپٹرنگ ہوتی ہیں، جب کہ نان کنڈکٹیو سیرامک مقناطیسی مواد آر ایف اے سی سپٹرنگ ہوتے ہیں۔ بنیادی اصول یہ ہے کہ ویکیوم میں گلو ڈسچارج کا استعمال آرگن آئنوں کے ساتھ ہدف کی سطح پر بمباری کرنا ہے۔ پلازما میں کیشنز تیزی سے منفی الیکٹروڈ کی سطح پر پھٹنے والے مواد کے طور پر پہنچ جائیں گے۔ یہ بمباری ٹارگٹ میٹریل کو اڑ کر سبسٹریٹ پر جمع کر کے ایک پتلی فلم بنائے گی۔
ہدف کے مواد کے انتخاب کا معیار
(1) فلم کی تشکیل کے بعد ہدف میں اچھی مکینیکل طاقت اور کیمیائی استحکام ہونا چاہیے۔
(2) ری ایکٹیو سپٹرنگ فلم کے لیے فلمی مواد کو ری ایکشن گیس کے ساتھ کمپاؤنڈ فلم بنانے کے لیے آسان ہونا چاہیے۔
(3) ہدف اور سبسٹریٹ کو مضبوطی سے جمع کیا جانا چاہیے، بصورت دیگر، سبسٹریٹ کے ساتھ اچھی بائنڈنگ فورس کے ساتھ فلمی مواد کو اپنایا جائے گا، اور نیچے کی فلم کو پہلے اکھڑایا جائے گا، اور پھر مطلوبہ فلمی تہہ تیار کی جائے گی۔
(4) فلم کی کارکردگی کی ضروریات کو پورا کرنے کی بنیاد پر، ٹارگٹ اور سبسٹریٹ کے تھرمل ایکسپینشن گتانک کے درمیان جتنا کم فرق ہوگا، اتنا ہی بہتر ہے، تاکہ پھٹی ہوئی فلم کے تھرمل تناؤ کے اثر کو کم کیا جا سکے۔
(5) فلم کے اطلاق اور کارکردگی کے تقاضوں کے مطابق، استعمال شدہ ہدف کو پاکیزگی، ناپاک مواد، اجزاء کی یکسانیت، مشینی درستگی وغیرہ کی تکنیکی ضروریات کو پورا کرنا چاہیے۔
پوسٹ ٹائم: اگست 12-2022