MoNb سپٹرنگ ٹارگٹ ہائی پیوریٹی پتلی فلم PVD کوٹنگ اپنی مرضی کے مطابق بنائی گئی ہے۔

Molybdenum Niobium کے اہداف کو Molybdenum اور Niobium پاؤڈروں کو ملا کر تیار کیا جاتا ہے جس کے بعد مکمل کثافت تک کمپیکٹ کیا جاتا ہے۔ اس طرح کمپیکٹ شدہ مواد کو اختیاری طور پر sintered کیا جاتا ہے اور پھر مطلوبہ ہدف کی شکل میں تشکیل دیا جاتا ہے۔
Molybdenum Niobium sputtering ہدف میں بلند درجہ حرارت پر زیادہ پگھلنے کا نقطہ، طاقت اور سختی ہوتی ہے۔ یہ تھرمل توسیع کے کم گتانک کے ساتھ بہترین حرارت اور برقی چالکتا کی بھی نمائش کرتا ہے۔ Molybdenum میں Niobium کو شامل کرنے سے مائع کرسٹل ڈسپلے پکسل میں کم از کم تین گنا اضافہ ہوتا ہے۔

Molybdenum Niobium sputtering Target Flat Panel Display (FPD) کے لیے اہم مواد ہیں اور Liquid Crystal Display (LCD) سورس کیوبائیڈ مائع کرسٹل ڈسپلے، فیلڈ ایمیشن ڈسپلے، آرگینک لائٹ ایمیٹنگ ڈسپلے، پلازما کے لیے molybdenum-niobium alloys میں بڑی مقدار میں استعمال ہوتے ہیں۔ ڈسپلے پینلز، کیتھوڈولومینیسینس ڈسپلے، ویکیوم فلوروسینٹ ڈسپلے، TFT لچکدار ڈسپلے اور ٹچ اسکرینز، وغیرہ۔ پینل ڈسپلے کے عمل کا الیکٹران بیم بخارات ایمیٹر کے اوپری سرے پر Niobium جمع کر سکتا ہے، جو ہائی ڈیفینیشن کے ساتھ بڑی اسکرینوں کو تیار کرنے میں بہت مددگار ثابت ہوگا۔

رچ اسپیشل میٹریلز سپٹرنگ ٹارگٹ کی تیاری میں مہارت رکھتے ہیں اور گاہکوں کی وضاحتوں کے مطابق مولیبڈینم نیوبیم سپٹرنگ میٹریل تیار کر سکتے ہیں۔ مزید معلومات کے لیے، براہ کرم ہم سے رابطہ کریں۔