FeNi سپٹرنگ ٹارگٹ ہائی پیوریٹی پتلی فلم پی وی ڈی کوٹنگ اپنی مرضی کے مطابق بنائی گئی ہے۔

آئرن نکل سپٹرنگ ٹارگٹ ویکیوم میلٹنگ، کاسٹنگ اور پی ایم کے ذریعے تیار کیا جاتا ہے۔ اس میں کم فیلڈ طاقت پر بہت زیادہ مقناطیسی پارگمیتا ہے۔

آئرن نکل ٹارگٹ (نکل>30 wt%) کمرے کے درجہ حرارت پر چہرے کے مرکز کیوبک ڈھانچے کو ظاہر کرتا ہے۔ روایتی طور پر نکل آئرن کے اہداف میں نکل کی 36% سے زیادہ ترکیب ہوتی ہے، اور اسے چار اقسام میں تقسیم کیا جا سکتا ہے: 35%～40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe、50%～65% Ni-Fe اور 70% 81% Ni-Fe ہر ایک کو سرکلر، مستطیل، یا ہوائی مقناطیسی ہسٹریسیس لوپس کے ساتھ مواد میں بنایا جا سکتا ہے۔

نکل آئرن (Ni-Fe) سپٹرنگ ٹارگٹس کو ایپلی کیشنز کی ایک وسیع رینج میں استعمال کیا جاتا ہے، مثال کے طور پر مقناطیسی اسٹوریج میڈیا اور EMI شیلڈنگ ڈیوائسز۔

رچ اسپیشل میٹریلز سپٹرنگ ٹارگٹ کی تیاری میں مہارت رکھتا ہے اور صارفین کی وضاحتوں کے مطابق آئرن نکل سپٹرنگ میٹریل تیار کر سکتا ہے۔ ہم پاکیزگی 99.99% اور اپنی مخصوص ترکیبیں فراہم کر سکتے ہیں: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%۔ مزید معلومات کے لیے، براہ کرم ہم سے رابطہ کریں۔