Шматки силіциду вольфраму

Силіцид вольфраму WSi2 використовується як матеріал для захисту від електричного струму в мікроелектроніці, шунтуванні на полікремнієвих проводах, антиокислювальному покритті та опорному покритті проводів. Силіцид вольфраму використовується як контактний матеріал у мікроелектроніці з питомим опором 60-80 мкОм см. Утворюється при 1000°C. Зазвичай він використовується як шунт для ліній полікремнію для підвищення його провідності та збільшення швидкості сигналу. Шар силіциду вольфраму може бути отриманий шляхом хімічного осадження з парової фази, наприклад осадження з парової фази. Використовуйте моносилан або дихлорсилан і гексафторид вольфраму як вихідний газ. Осаджена плівка є нестехіометричною і потребує відпалу для перетворення в більш провідну стехіометричну форму.

Силіцид вольфраму може замінити попередню плівку вольфраму. Силіцид вольфраму також використовується як бар'єрний шар між кремнієм та іншими металами.

Силіцид вольфраму також дуже цінний у мікроелектромеханічних системах, серед яких силіцид вольфраму в основному використовується як тонка плівка для виготовлення мікросхем. З цією метою плівка силіциду вольфраму може бути піддана плазмовому травленню, використовуючи, наприклад, силіцид.

Rich Special Materials спеціалізується на виробництві мішеней для напилення та може виробляти силіцид вольфрамуштукзгідно специфікації замовника. Для отримання додаткової інформації, будь ласка, зв'яжіться з нами.