Виробник і постачальник оптових мішеней для напилення NiV високої чистоти тонкоплівкового PVD покриття

Нікель-ванадій

NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Короткий опис:

Категорія	Мішень для розпилення сплаву
Хімічна формула	NiV
Композиція	Нікель-ванадій
Чистота	99,9%, 99,95%, 99,99%
Форма	Пластини，мішені колони，дугові катоди，виготовлення на замовлення
Виробничий процес	Вакуумна плавка
Доступний розмір	L≤4000 мм, W≤350 мм

Надішліть нам електронний лист

Деталі продукту

Теги товарів

Опис нікель-ванадієвої мішені для напилення

Золото часто застосовують для осадження шару інтегральної схеми, але легкоплавка сполука AuSi часто утворюється, якщо золото поєднується з кремнієм, що спричинить нещільність між різними шарами. Чистий нікель є гарним вибором для адгезивного шару, тоді як бар’єрний шар також потрібен між шаром нікелю та золота, щоб запобігти проліферації. Ванадій може ідеально задовольнити цю вимогу з високою температурою плавлення та здатністю витримувати високу щільність амперу. Тому нікель, ванадій і золото є трьома матеріалами, які зазвичай застосовуються в промисловості інтегральних схем. Нікель-ванадієва мішень для напилення виготовляється шляхом додавання ванадію в розплавлений нікель. З низьким феромагнетизмом це хороший вибір для магнетронного розпилення електронних виробів, які можуть створювати шар нікелю та шар ванадію одночасно.

Ni-7V мас.% Вміст домішок

Чистота	Основний компонент(мас.%)	Хімічні домішки（≤ppm）							Домішка Всього(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7±0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7±0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99,9	7±0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Упаковка мішеней для напилення нікелю-ванадію

Наша нікель-ванадієва мішень для розпилення має чіткі зовнішні ярлики для забезпечення ефективної ідентифікації та контролю якості. Велика увага приділяється уникненню будь-яких пошкоджень, які можуть бути спричинені під час зберігання або транспортування.

Отримати контакт

Нікель-ванадієві мішені RSM мають надвисоку чистоту та однорідність. Вони доступні в різних формах, чистоті, розмірах і цінах. Ми спеціалізуємося на виробництві тонкоплівкових покриттів високої чистоти з чудовими характеристиками, а також максимально можливою щільністю та найменшим можливим середнім розміром зерна для використання в покритті форм、декорації、автомобільних деталях、склі з низьким вмістом електромагніту、напівпровідниковій інтегральній схемі、тонкій плівці стійкість、графічний дисплей、аерокосмічний апарат、магнітний запис、сенсорний екран、тонкоплівкова сонячна батарея та інші фізичні осадження з парової фази (PVD). Будь ласка, надішліть нам запит щодо поточних цін на мішені для розпилення та інші матеріали для осадження, яких немає в списку.

Попередній: WCu Sputtering Target Високочисте тонкоплівкове покриття Pvd на замовлення

далі: Мішень для напилення NiCr. Тонкоплівкове Pvd покриття високої чистоти, виготовлене на замовлення