Мішень для напилення зі сплаву CrAl. Тонкоплівкове PVD покриття високої чистоти, виготовлене на замовлення
Хром Алюміній
Виготовлення хром-алюмінієвих мішеней для напилення включає наступні етапи:
1. Подрібнення та змішування порошку.
2. Обробка гарячим ізостатичним пресуванням для отримання напівфабрикатів.
3. Механічна обробка грубого матеріалу мішені для напилення з хромалюмінієвого сплаву для отримання матеріалу мішені для напилення з хромалюмінієвого сплаву.
Під час процесу осадження мішеней для напилення CrAl утворюється тверде покриття алюміній-хром-нітрид (AlCrN). Це покриття демонструє високу твердість і стійкість до окислення навіть при високій температурі. Фрези можуть працювати на високих подачах, щоб збільшити продуктивність і підвищити якість при використанні верстатів з ЧПК.
Наші типові мішені AlCr та їхні властивості
| Cr-70Alпри% | Cr-60Alпри% | Cr-50Alпри% | |
| Чистота (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Щільність（г/см3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Gдощ Розмір(мкм) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| процес | стегно | стегно | стегно |
Rich Special Materials спеціалізується на виробництві мішеней для напилення та може виробляти матеріали для напилення алюмінію і хрому відповідно до специфікацій клієнтів. Наші продукти відрізняються відмінними механічними властивостями, однорідною структурою, полірованою поверхнею без розлучень, пор і тріщин. Для отримання додаткової інформації, будь ласка, зв'яжіться з нами.
Категорії товарів
-
AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
AlNi Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
-
AlSiCu Alloy Sputtering Target High Purity Thin...
-
AlZn Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
AlSnCu Sputtering Target High Purity Thin Film ...
-
AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...