AlTa Sputtering نىشان يۇقىرى ساپلىق نېپىز فىلىم PVD قاپلاش خاسلاشتۇرۇلغان
ئاليۇمىن-تانتال
نىشان ئاليۇمىن بىلەن تانتال تالقىنىنى ئارىلاشتۇرۇش ياكى ۋاكۇئۇم ئېرىتىش ئارقىلىق تولۇق زىچلىق بىلەن قىسىش ئارقىلىق تەييارلىنىدۇ. شۇڭا ئىخچاملانغان ماتېرىياللار ئىختىيارىي سۈزۈلۈپ ، ئاندىن كۆزلىگەن نىشان شەكلىدە شەكىللىنىدۇ.
ئاليۇمىن تانتالنىڭ پۈركۈش نىشانىنىڭ ساپلىقى يۇقىرى ، ئوخشاش مىكرو مىكرو قۇرۇلما ۋە ئۆتكۈزۈشچانلىقى ئەلا. ئۇ تەكشى تاختاي كۆرسىتىش سانائىتى ئۈچۈن نېپىز پەردە شەكىللەندۈرۈشتە كەڭ قوللىنىلىدۇ. ئاليۇمىن تانتالمۇ يۇقىرى ئىقتىدارلىق تىتان قېتىشمىسى ئىشلەپ ، ئۇنىڭ يۇقىرى تېمپېراتۇرىغا ماسلىشىشچانلىقىنى يۇقىرى كۆتۈرەلەيدۇ.
ئەل-تا قېتىشمىسىنىڭ نىجاسەت مەزمۇنى
تەركىبى | مەزمۇن(%) | ||||
Ta | Fe | Si | C | O | |
AlTa60 | 55.0 ~ 65.0 | .050.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | .050.05 |
AlTa70 | 65.0 ~ 75.0 | .050.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | .050.05 |
مول ئالاھىدە ماتېرىياللار پۈركۈش نىشانىنى ياساش بىلەن شۇغۇللىنىدىغان بولۇپ ، خېرىدارلارنىڭ ئۆلچىمىگە ئاساسەن ئاليۇمىن تانتال پۈركۈش ماتېرىياللىرىنى ئىشلەپچىقىرالايدۇ. مەھسۇلاتلىرىمىزدا ئېسىل مېخانىكىلىق خۇسۇسىيەتلەر ، ئوخشاش قۇرۇلما ، سىلىقلانغان يەر يۈزى ئايرىلمايدۇ ، تەر تۆشۈكچىلىرى ۋە يېرىقلىرى يوق. تېخىمۇ كۆپ ئۇچۇرغا ئېرىشىش ئۈچۈن بىز بىلەن ئالاقىلىشىڭ.