Максатның күп функцияләре һәм күп өлкәләрдә киң кулланмалары бар. Яңа бөтерелү җиһазлары электроннарны спиральләштерү өчен көчле магнитлар кулланалар диярлек, максат тирәсендә аргонның ионлашуын тизләтү өчен, бу максат белән аргон ионнары арасында бәрелеш мөмкинлеген арттыра,
Чәчү тизлеген арттыру. Гадәттә, DC каплау металл каплау өчен кулланыла, ә RF элемтәсе спуттер үткәргеч булмаган керамик магнит материаллары өчен кулланыла. Төп принцип - вакуумда максатның өслегендә аргон (AR) ионнарын сугу өчен ялтыравыклы агызуны куллану, һәм плазмадагы катионнар чәчелгән материал буларак тискәре электрод өслегенә ашыга. Бу йогынты максатчан материалны очып китә һәм фильм формалаштыру өчен субстратка салачак.
Гомумән алганда, бөтерелү процессын кулланып кино каплауның берничә үзенчәлеге бар:
(1) Металл, эретмә яки изолятор нечкә кино мәгълүматларына ясалырга мөмкин.
2) Тиешле шартларда бер үк композицияле фильм күп һәм тәртипсез максатлардан ясалырга мөмкин.
(3) Максатлы материал һәм газ молекулаларының катнашмасы яки кушылмасы атмосферага кислород яки башка актив газлар өстәп ясалырга мөмкин.
(4) Максатлы кертү токы һәм бөтерелү вакыты контрольдә тотыла ала, һәм югары төгәл кино калынлыгын алу җиңел.
(5) Бу бүтән фильмнар җитештерү өчен файдалы.
(6) Бөтерелгән кисәкчәләр тарту көченә бик тәэсир итмиләр, һәм максат һәм субстрат иркен оештырылырга мөмкин.
Пост вакыты: 24-2022 май