Максатның күп эффектлары бар, һәм базар үсеше киң. Бу күп өлкәләрдә бик файдалы. Барлык яңа диярлек җиһазлар диярлек спираль электроннар өчен көчле магнитлар кулланалар, максат тирәсендә аргонның ионлашуын тизләтәләр, нәтиҗәдә максат белән аргон ионнары арасында бәрелешү ихтималы арта. Хәзер әйдәгез вакуум каплауда максатның роленә күз салыйк.
Чәчү тизлеген яхшырту. Гадәттә, DC спуттеры металл каплау өчен кулланыла, ә RF AC спуттеры үткәргеч булмаган керамик магнит материаллары өчен кулланыла. Фундаменталь принцип - вакуумда максатның өслегендә аргон (AR) ионнарын сугу өчен ялтыравыкны куллану, һәм плазмадагы катионнар чәчелгән материал буларак тискәре электрод өслегенә ашыга. Бу йогынты максатчан материалны очып китә һәм фильм формалаштыру өчен субстратка салачак.
Гомумән алганда, кино каплауның берничә үзенчәлеге бар: 1) металл, эретмә яки изолятор кино мәгълүматларына ясалырга мөмкин.
2) Тиешле шартларда бер үк композицияле фильм күп һәм тәртипсез максатлардан ясалырга мөмкин.
(3) Максатлы материал һәм газ молекулаларының катнашмасы яки кушылмасы атмосферага кислород яки башка актив газлар өстәп чыгарылырга мөмкин.
(4) Максатлы кертү токы һәм бөтерелү вакыты контрольдә тотыла ала, һәм югары төгәл кино калынлыгын алу җиңел.
(5) Башка процесслар белән чагыштырганда, зур мәйданлы бердәм фильмнар җитештерү өчен уңайлы.
(6) Бөтерелгән кисәкчәләр тарту тәэсиренә диярлек тәэсир итмиләр, һәм максат һәм субстрат позицияләре иркен урнаштырылырга мөмкин.
Пост вакыты: 17-2022 май