Күпләп сату AlTa Sputtering Максаты Pгары чисталык Нечкә фильм PVD каплау махсус җитештерелгән җитештерүче һәм тәэмин итүче

Алюминий-Тантал

AlTa Sputtering Target Highгары чисталык Нечкә фильм PVD каплау үзенчәлекле рәсем

Кыска тасвирлау:

Төркем	Эретелгән спуттеринг максаты
Химик формула	AlTa
Композиция	Алюминий-Тантал
Чисталык	99,9% ， 99.95% 9. 99,99%
Форма	Тәлинкәләр umn Колоннаның максатлары ， дуга катодлары ， Заказлы
Производство процессы	Вакуум эретү ， PM
Размер	L≤200mm ， W≤200mm

Безгә электрон почта җибәрегез

Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Максатлар Алюминий һәм Тантал порошокларын яки вакуум эретүне кушып әзерләнәләр, аннары тулы тыгызлыкка кысылалар. Шулай итеп кысылган материаллар өстәмә рәвештә синтерланганнар, аннары кирәкле максат формасына формалашалар.

Алюминий Тантал чәчү максаты югары чисталыкка, бертөрле микросруктурага һәм искиткеч үткәрүчәнлеккә ия. Тигез панель дисплей индустриясе өчен нечкә фильмнар формалашуда киң кулланыла. Алюминий Тантал шулай ук югары температуралы яраклылыгын яхшырту өчен югары җитештерүчән Титан эритмәсе җитештерү өчен өстәлергә мөмкин.

Аль-Та эретмәсенең пычраклыгы

композиция	Эчтәлек（%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55.0 ~ 65.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05
AlTa70	65.0 ~ 75.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05

Бай махсус материаллар Спуттеринг Максаты җитештерүдә махсуслашкан һәм клиентлар спецификациясе буенча Алюминий Тантал Спуттер материалларын җитештерә ала. Безнең продуктларда искиткеч механик үзенчәлекләр, бертөрле структура, сегрегациясез, күзәнәкләр, ярыклар булмаган чистартылган өслек бар. Күбрәк мәгълүмат алу өчен зинһар, безнең белән элемтәгә керегез.

Алдагы: AlTi эретмәсе Спуттеринг Максаты югары чисталык

Киләсе: AlCu Sputtering Target югары чисталык нечкә фильм PVD каплау махсус эшләнгән