Artık giderek daha fazla kullanıcı hedef türlerini anlıyor veuygulamaları, ancak alt bölümleri çok net olmayabilir. Şimdi hadiRSM mühendisi seninle paylaşmakbiraz indüksiyon magnetron püskürtme hedeflerinden.
Püskürtme hedefi: metal püskürtme kaplama hedefi, alaşım püskürtme kaplama hedefi, seramik püskürtme kaplama hedefi, borür seramik püskürtme hedefi, karbür seramik püskürtme hedefi, florür seramik püskürtme hedefi, nitrür seramik püskürtme hedefi, oksit seramik hedefi, selenit seramik püskürtme hedefi, silisit seramik püskürtme hedef, sülfür seramik püskürtme hedefi, tellür seramik püskürtme hedefi, diğer seramik hedefler, Krom katkılı silikon oksit seramik hedef (CR) SiO), indiyum fosfit hedefi (INP), kurşun arsenit hedefi (pbas), indiyum arsenit hedefi (InAs).
Magnetron püskürtme genel olarak iki türe ayrılır: DC püskürtme ve RF püskürtme. DC püskürtme ekipmanının prensibi basittir ve metal püskürtme sırasında hızı da hızlıdır. RF püskürtme yaygın olarak kullanılmaktadır. İletken verileri püskürtmenin yanı sıra iletken olmayan verileri de sıçratabilir. Püskürtme hedefi ayrıca oksitler, nitrürler ve karbürler gibi bileşik verileri hazırlamak amacıyla reaktif püskürtme için de kullanılabilir. RF frekansı artarsa mikrodalga plazma püskürtmeye dönüşür. Şu anda, elektron siklotron rezonansı (ECR) mikrodalga plazma püskürtme yaygın olarak kullanılmaktadır.
Gönderim zamanı: Mayıs-26-2022