Web sitelerimize hoş geldiniz!

Püskürtme hedef malzemesinin ana özellikleri

Artık hedefe çok aşina olmalıyız, şimdi hedef pazar da artıyor, aşağıda RSM'den editör tarafından paylaşılan püskürtme hedefinin ana performansı nedir?

https://www.rsmtarget.com/

  Saflık

Hedef malzemenin saflığı ana performans indekslerinden biridir çünkü hedef malzemenin saflığının ince filmin performansı üzerinde büyük etkisi vardır. Ancak pratik uygulamada hedef malzemelerin saflık gereksinimleri aynı değildir. Örneğin, mikroelektronik endüstrisinin hızla gelişmesiyle birlikte silikon çip boyutu 6", 8"'den 12"'ye geliştirildi ve kablolama genişliği 0,5um'dan 0,25um,0,18um ve hatta 0,13um'a düşürüldü. Daha önce %99,995 hedef malzemenin saflığı, 0,35umIC'nin işlem gereksinimlerini karşılayabiliyordu. 0,18um çizgilerin hazırlanması için hedef malzemenin saflığı %99,999 veya hatta %99,9999'dur.

  Safsızlık içeriği

Hedef katıdaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı, film birikmesinin ana kirlilik kaynaklarıdır. Farklı amaçlara yönelik hedef malzemelerin, farklı safsızlık içeriğine yönelik farklı gereksinimleri vardır. Örneğin, yarı iletken endüstrisinde kullanılan saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedeflerin, alkali metaller ve radyoaktif elementlerin içeriğine ilişkin özel gereksinimleri vardır.

  Yoğunluk

Hedef katıdaki gözenekliliği azaltmak ve püskürtme filminin performansını artırmak için genellikle hedefin yüksek yoğunluğu gerekir. Hedefin yoğunluğu sadece püskürtme hızını değil aynı zamanda filmin elektriksel ve optik özelliklerini de etkiler. Hedef yoğunluğu ne kadar yüksek olursa film performansı da o kadar iyi olur. Ayrıca hedefin yoğunluğunun ve mukavemetinin arttırılması, hedefin püskürtme prosesindeki termal strese daha iyi dayanmasını sağlar. Yoğunluk aynı zamanda hedefin temel performans endekslerinden biridir.

  Tane büyüklüğü ve tane büyüklüğü dağılımı

Hedef genellikle mikrometreden milimetreye kadar değişen tane boyutuna sahip polikristaldir. Aynı hedef için, küçük taneli hedefin püskürtme hızı, büyük taneli hedefin püskürtme hızından daha hızlıdır. Daha küçük tane boyutu farkıyla (düzgün dağılım) püskürtme hedefiyle biriktirilen filmlerin kalınlık dağılımı daha düzgündür.


Gönderim zamanı: Ağu-04-2022