Püskürtme hedefi, alaşım veya metal oksit gibi bir maddenin elektronik bir alt tabakaya atomik seviyede eklenmesiyle ince bir film oluşturan elektronik bir malzemedir. Bunlar arasında, karartma filmi için püskürtme hedefi, kabloları karartmak ve TFT kablolarının görünür ışık yansımasını (düşük yansıma) azaltmak için organik EL veya sıvı kristal panel üzerinde bir film oluşturmak için kullanılır. Püskürtme hedefi aşağıdaki avantajlara ve etkilere sahiptir. Önceki ürünlerle karşılaştırıldığında, çeşitli ekranların yüksek derecede incelik ve tasarım özgürlüğünün geliştirilmesine ve yarı iletkenle ilgili ürünlerin kablolardan yansıyan ışığının neden olduğu gürültünün azaltılmasına yardımcı olur.
Alüminyum hedefin avantajları ve etkileri:
(1) Kablolama üzerinde alüminyum hedef oluşturulduktan sonra görünür ışık azaltılabilir
Önceki ürünlerle karşılaştırıldığında düşük yansıma elde edebilir.
(2) DC püskürtme reaktif gaz olmadan gerçekleştirilebilir
Önceki ürünlerle karşılaştırıldığında, büyük yüzeylerde film homojenliğinin farkına varılması faydalıdır.
(3) Film oluşturulduktan sonra aşındırma işlemi kablolama ile birlikte yapılabilir.
Malzemeyi müşterinin mevcut aşındırma işlemine göre ayarlayın ve mevcut işlemi değiştirmeden kablolamayla birlikte aşındırın. Ayrıca firma müşterilerin püskürtme durumlarına göre de destek verecek.
(4) Mükemmel ısı direnci, su ve alkali direnci
Su direnci ve alkali direncinin yanı sıra yüksek ısı direncine de sahiptir, bu nedenle TFT kablolama işleminde filmin özellikleri değişmeyecektir.
Gönderim zamanı: Ağu-10-2022