Hepimizin bildiği gibi püskürtme hedeflerinin birçok özelliği vardır ve bunların uygulama alanları da oldukça geniştir. Farklı alanlarda yaygın olarak kullanılan hedef türleri de farklıdır. Bugün RSM editörü ile püskürtme hedefi uygulama alanlarının sınıflandırılmasını öğrenelim!
1、 Püskürtme hedefinin tanımı
Püskürtme, ince film malzemelerinin hazırlanmasında kullanılan ana teknolojilerden biridir. Yüksek hızlı bir iyon ışını oluşturmak, katı yüzeyi bombardıman etmek için vakumda hızlandırmak ve toplamak için iyon kaynağı tarafından üretilen iyonları kullanır ve iyonlar, katı yüzeydeki atomlarla kinetik enerji alışverişinde bulunur, böylece katı üzerindeki atomlar yüzey katıdan ayrılır ve altlık yüzeyine biriktirilir. Bombardımanlanan katı, püskürtme hedefi olarak adlandırılan püskürtme yoluyla biriktirilen ince filmin hazırlanması için hammaddedir.
2、 Püskürtme hedefi uygulama alanlarının sınıflandırılması
1. Yarıiletken hedefi
(1) Ortak hedefler: Bu alandaki ortak hedefler arasında tantal/bakır/titanyum/alüminyum/altın/nikel gibi yüksek erime noktasına sahip metaller yer alır.
(2) Kullanım: esas olarak entegre devreler için temel hammadde olarak kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: saflık, boyut, entegrasyon vb. için yüksek teknik gereksinimler.
2. Düz panel ekran hedefi
(1) Ortak hedefler: Bu alandaki ortak hedefler arasında alüminyum / bakır / molibden / nikel / Niyobyum / silikon / krom vb. yer alır.
(2) Kullanım: Bu tür hedef çoğunlukla TV'ler ve dizüstü bilgisayarlar gibi çeşitli geniş alanlı filmler için kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: saflık, geniş alan, tekdüzelik vb. için yüksek gereksinimler.
3. Güneş pili için hedef malzeme
(1) Ortak hedefler: alüminyum / bakır / molibden / krom /ITO/Ta ve güneş pilleri için diğer hedefler.
(2) Kullanım: esas olarak “pencere katmanı”, bariyer katmanı, elektrot ve iletken filmde kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: yüksek teknik gereksinimler ve geniş uygulama aralığı.
4. Bilgi depolama hedefi
(1) Ortak hedefler: kobalt / nikel / ferroalyaj / krom / tellür / selenyum ve bilgi depolamaya yönelik diğer malzemelerin ortak hedefleri.
(2) Kullanım: Bu tür hedef malzeme esas olarak optik sürücünün ve optik diskin manyetik kafası, orta katmanı ve alt katmanı için kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: yüksek depolama yoğunluğu ve yüksek iletim hızı gereklidir.
5. Takım modifikasyonu hedefi
(1) Ortak hedefler: aletlerle değiştirilen titanyum / zirkonyum / krom alüminyum alaşımı gibi ortak hedefler.
(2) Kullanımı: Genellikle yüzey güçlendirmek için kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: yüksek performans gereksinimleri ve uzun hizmet ömrü.
6. Elektronik cihazlara yönelik hedefler
(1) Ortak hedefler: elektronik cihazlar için ortak alüminyum alaşımı / silisit hedefleri
(2) Amaç: Genellikle ince film dirençleri ve kapasitörler için kullanılır.
(3) Performans gereksinimleri: küçük boyut, stabilite, düşük direnç sıcaklık katsayısı
Gönderim zamanı: Temmuz-27-2022