Maligayang pagdating sa aming mga website!

TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Titanium Silicon

Maikling Paglalarawan:

Kategorya

Alloy Sputtering Target

Formula ng Kemikal

TiSi

Komposisyon

Titanium Silicon

Kadalisayan

99.7%,99.9%,99.95%

Hugis

Mga Plate,Mga Target ng Column,arc cathodes,Custom-made

Proseso ng Produksyon

Pagtunaw ng Vacuum,PM

Magagamit na Sukat

L≤2000mm,W≤200mm


Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Video

Titanium Silicon Sputtering Target na Paglalarawan

Ang isang super-hard na Nitride coating ay maaaring mabuo kapag ang Titanium Silicon ay pinagsama sa Nitrogen gas sa panahon ng proseso ng deposition. Tinitiyak ng naroroon na elemento ng Silicon ang mataas na pag-uugali ng paglaban sa oksihenasyon, habang ang Titanium - tigas. Maaari itong magpakita ng mahusay na pag-aari ng wear resistance kahit na sa mataas na temperatura. Ang mga cutting tool na idineposito ng TiSiN coating ay mainam para sa high-speed at hard milling, lalo na sa dry cutting, at maaaring humarap sa ilang super alloys, tulad ng Nickel at Titanium base alloys.

Ang aming karaniwang mga target na TiSi at ang kanilang mga katangian

Ti-15Sisa%

Ti-20Sisa%

Ti-25Sisa%

Ti-30Sisa%

kadalisayan (%)

99.9

99.9

99.9

99.9

Densidad(g/cm3

4.4

4.35

4.3

4.25

Gulan Sukat(µm)

200/100

100

100

100

Proseso

VAR/HIP

HIP

HIP

HIP

Ang aming kumpanya ay may maraming taon ng karanasan sa pagmamanupaktura ng mga target ng sputtering para sa mga tool sa paggupit ng amag. Ang Ti-15Si sa%, gawa sa vacuum melting, ay may homogenous na istraktura, mataas na kadalisayan at mababang nilalaman ng gas. Bukod, nagbibigay din kami ng Ti-15Si sa%, Ti-20Si sa% at Ti-25Si sa% na ginawa sa pamamagitan ng power metalurgy. Ang aming mga target na TiSi ay may mahusay na mga mekanikal na katangian, na ginagawa itong hindi madaling kapitan sa pag-crack at pagkabigo sa istruktura.

Titanium Silicon Sputtering Target Packaging

Ang aming Titanium Silicon sputter target ay malinaw na na-tag at may label na panlabas upang matiyak ang mahusay na pagkakakilanlan at kontrol sa kalidad. Malaki ang pag-iingat upang maiwasan ang anumang pinsala na maaaring idulot sa panahon ng pag-iimbak o transportasyon.

Kumuha ng Contact

Ang Titanium Silicon sputtering target ng RSM ay napakataas ng kadalisayan at uniporme. Available ang mga ito sa iba't ibang anyo, kadalisayan, sukat, at presyo. Dalubhasa kami sa paggawa ng high purity thin film coating na materyales na may mahusay na performance pati na rin ang pinakamataas na posibleng density at pinakamaliit na posibleng average na laki ng butil para gamitin sa mold coating, dekorasyon, mga piyesa ng sasakyan, low-E glass, semi-conductor integrated circuit, thin film. resistance, graphic display, aerospace, magnetic recording, touch screen, thin film solar battery at iba pang pisikal na vapor deposition (PVD) na mga aplikasyon. Mangyaring magpadala sa amin ng isang pagtatanong para sa kasalukuyang pagpepresyo sa mga sputtering na target at iba pang materyal sa pag-deposito na hindi nakalista.

1
2
3

  • Nakaraan:
  • Susunod: