Wholesale TiAlSi Sputtering Target High Purity Manipis na Pelikulang Pvd Coating Custom Made Manufacturer at Supplier

Titanium Aluminum Silicon

Target ng TiAlSi Sputtering High Purity Manipis na Pelikulang Pvd Coating Custom Made Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Formula ng Kemikal	TiAlSi
Komposisyon	Titanium Aluminum Silicon
Kadalisayan	99.5%，99.9%，99.95%
Hugis	Mga Plate，Mga Target ng Column，arc cathodes，Custom-made
Proseso ng Produksyon	PM
Magagamit na Sukat	L≤2000mm,W≤200mm

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Titanium Aluminum Silicon Sputtering Target na Paglalarawan

Ang Titanium Aluminum Silicon sputtering target ay gawa-gawa sa pamamagitan ng power metalurgy.
Titanium Aluminum Silicon alloy sa conventionally na ginagamit sa pagmamanupaktura ng automotive engine. Ito ay may mahusay na mataas na temperatura na kaangkupan at wear resistance. Ang paggamit ng haluang metal na Ti-Al-Si ay maaaring makabuluhang pahabain ang buhay ng mga bahagi ng engine nang halos 35%. Tulad ng para sa paggamit nito sa motorsiklo at automotive wheel, ito ay nagpapakita ng mas mahusay na castability, machinability, fatigue resistance at impact toughness kaysa sa A356 Aluminum.

Ang isang mabilis na solidified na aluminyo na haluang metal ay maaaring makuha sa pamamagitan ng isang mabilis na proseso ng solidification na tinatawag na "melt spinning", na bumubuo ng mga superior properties kumpara sa conventional aluminum alloy, kasama ang fine-grained microstructure at higit na flexibility sa alloying. Ito ay isang potensyal na materyal sa industriya ng sasakyang panghimpapawid upang palitan ang Titanium base alloy na ginamit sa 150-300 ℃.

Sa panahon ng proseso ng pag-deposito ng mga target na TiAlSi, ang TiAlSi / TiAlSiN ay maaaring mabuo nang isa-isa bilang isang multi-layer ng mataas na kalidad na mga kristal na layer na may karamihan sa mga kubiko na istruktura. Ginawa ng mga multi-layer coating na ito ang mga materyales na ito para sa mga hard coating upang mapataas ang buhay ng mga instrumento na ginagamit para sa malupit na kapaligiran.

Titanium Aluminum Silicon Sputtering Target Packaging

Ang aming Titanium Aluminum Silicon sputter target ay malinaw na naka-tag at may label na panlabas upang matiyak ang mahusay na pagkakakilanlan at kontrol sa kalidad. Malaki ang pag-iingat upang maiwasan ang anumang pinsala na maaaring idulot sa panahon ng pag-iimbak o transportasyon.

Kumuha ng Contact

Ang Titanium Aluminum Silicon sputtering target ng RSM ay napakataas ng kadalisayan at uniporme. Available ang mga ito sa iba't ibang anyo, kadalisayan, sukat, at presyo. Dalubhasa kami sa paggawa ng high purity thin film coating na materyales na may mahusay na performance pati na rin ang pinakamataas na posibleng density at pinakamaliit na posibleng average na laki ng butil para gamitin sa mold coating, dekorasyon, mga piyesa ng sasakyan, low-E glass, semi-conductor integrated circuit, thin film. resistance, graphic display, aerospace, magnetic recording, touch screen, thin film solar battery at iba pang pisikal na vapor deposition (PVD) na mga aplikasyon. Mangyaring magpadala sa amin ng isang pagtatanong para sa kasalukuyang pagpepresyo sa mga sputtering na target at iba pang materyal sa pag-deposito na hindi nakalista.

Nakaraan: TiAlV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Susunod: TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made