Ang sputtering target ay isang elektronikong materyal na bumubuo ng manipis na pelikula sa pamamagitan ng paglalagay ng substance gaya ng alloy o metal oxide sa isang elektronikong substrate sa atomic level. Kabilang sa mga ito, ang sputtering target para sa blackening film ay ginagamit upang bumuo ng isang pelikula sa organic EL o liquid crystal panel upang itim ang mga kable at bawasan ang nakikitang light reflectance (low reflectance) ng TFT wiring. Ang sputter target ay may mga sumusunod na pakinabang at epekto. Kung ikukumpara sa mga nakaraang produkto, nakakatulong ito upang mapabuti ang mataas na antas ng kalinisan at kalayaan sa disenyo ng iba't ibang mga display, at bawasan ang ingay na dulot ng mga kable na sumasalamin sa liwanag ng mga produktong nauugnay sa semiconductor.
Mga kalamangan at epekto ng target na aluminyo:
(1) Matapos mabuo ang target na aluminyo sa mga kable, maaaring mabawasan ang nakikitang liwanag
kumpara sa mga nakaraang produkto, maaari itong makamit ang mababang pagmuni-muni.
(2) Maaaring gawin ang DC sputtering nang walang reaktibong gas
kumpara sa mga nakaraang produkto, nakakatulong na mapagtanto ang homogeneity ng pelikula ng malalaking substrate.
(3) Matapos mabuo ang pelikula, ang proseso ng pag-ukit ay maaaring isagawa kasama ng mga kable
ayusin ang materyal ayon sa umiiral na proseso ng pag-ukit ng customer, at maaaring mag-ukit kasama ng mga kable nang hindi binabago ang umiiral na proseso. Bilang karagdagan, ang kumpanya ay magbibigay din ng suporta ayon sa mga kondisyon ng sputtering ng mga customer.
(4) Napakahusay na paglaban sa init, paglaban sa tubig at alkali
bilang karagdagan sa paglaban sa tubig at paglaban sa alkali, mayroon din itong mataas na paglaban sa init, kaya ang mga katangian ng pelikula ay hindi magbabago sa proseso ng pagproseso ng mga kable ng TFT.
Oras ng post: Aug-10-2022