Tulad ng alam nating lahat, maraming mga detalye ng mga sputtering target, at ang kanilang mga patlang ng aplikasyon ay napakalawak din. Ang mga uri ng mga target na karaniwang ginagamit sa iba't ibang larangan ay iba rin. Ngayon, alamin natin ang tungkol sa pag-uuri ng sputtering target na mga field ng application kasama ang editor ng RSM!
1, Kahulugan ng sputtering target
Ang sputtering ay isa sa mga pangunahing teknolohiya para sa paghahanda ng mga materyales sa manipis na pelikula. Ginagamit nito ang mga ion na ginawa ng pinagmumulan ng ion upang mapabilis at matipon sa vacuum upang bumuo ng isang high-speed na sinag ng ion, bombahin ang solidong ibabaw, at ang mga ion ay nagpapalit ng kinetic energy sa mga atomo sa solidong ibabaw, upang ang mga atomo sa solido ibabaw ay hiwalay mula sa solid at idineposito sa ibabaw ng substrate. Ang bombarded solid ay ang hilaw na materyal para sa paghahanda ng manipis na pelikula na idineposito sa pamamagitan ng sputtering, na tinatawag na sputtering target.
2、 Pag-uuri ng mga field ng sputtering target na application
1. Target ng semiconductor
(1) Mga karaniwang target: ang mga karaniwang target sa larangang ito ay kinabibilangan ng mga high melting point na metal gaya ng tantalum / copper / titanium / aluminum / gold / nickel.
(2) Paggamit: pangunahing ginagamit bilang pangunahing hilaw na materyales para sa mga integrated circuit.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: mataas na teknikal na kinakailangan para sa kadalisayan, laki, pagsasama, atbp.
2. Target para sa flat panel display
(1) Mga karaniwang target: ang mga karaniwang target sa field na ito ay kinabibilangan ng aluminum / copper / molybdenum / nickel / Niobium / silicon / chromium, atbp.
(2) Paggamit: ang ganitong uri ng target ay kadalasang ginagamit para sa iba't ibang uri ng malalaking lugar na pelikula tulad ng mga TV at notebook.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: mataas na mga kinakailangan para sa kadalisayan, malaking lugar, pagkakapareho, atbp.
3. Target na materyal para sa solar cell
(1) Mga karaniwang target: aluminum / copper / molybdenum / chromium /ITO/Ta at iba pang mga target para sa solar cells.
(2) Paggamit: pangunahing ginagamit sa "layer ng bintana", layer ng barrier, elektrod at conductive film.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: mataas na teknikal na kinakailangan at malawak na saklaw ng aplikasyon.
4. Target para sa pag-iimbak ng impormasyon
(1) Mga karaniwang target: karaniwang mga target ng cobalt / nickel / ferroalloy / chromium / tellurium / selenium at iba pang mga materyales para sa pag-imbak ng impormasyon.
(2) Paggamit: Ang ganitong uri ng target na materyal ay pangunahing ginagamit para sa magnetic head, gitnang layer at ilalim na layer ng optical drive at optical disc.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: kinakailangan ang mataas na density ng imbakan at mataas na bilis ng paghahatid.
5. Target para sa pagbabago ng tool
(1) Mga karaniwang target: karaniwang mga target tulad ng titanium / zirconium / chromium aluminum alloy na binago ng mga tool.
(2) Paggamit: karaniwang ginagamit para sa pagpapalakas ng ibabaw.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: mga kinakailangan sa mataas na pagganap at mahabang buhay ng serbisyo.
6. Mga target para sa mga elektronikong aparato
(1) Mga karaniwang target: karaniwang aluminum alloy / silicide target para sa mga elektronikong device
(2) Layunin: karaniwang ginagamit para sa manipis na film resistors at capacitors.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap: maliit na sukat, katatagan, mababang koepisyent ng temperatura ng paglaban
Oras ng post: Hul-27-2022