Wholesale FeCoTa Sputtering Target High Purity Manipis na Pelikulang Pvd Coating Custom Made Manufacturer at Supplier

Iron Cobalt Tantalum

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Formula ng Kemikal	FeCoTa
Komposisyon	Iron Cobalt Tantalum
Kadalisayan	99.9%，99.95%，99.99%
Hugis	Mga Plate，Mga Target ng Column，arc cathodes，Custom-made
Proseso ng Produksyon	Pagtunaw ng Vacuum，PM
Magagamit na Sukat	L≤200mm，W≤200mm

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Ang mga target na Iron Cobalt Tantalum ay karaniwang magagamit sa pabilog na hugis at mga kritikal na materyal na manipis na pelikula ng vertical magnetic recording media. Ang malaking halaga ng Tantalum na naroroon sa haluang metal ay magreresulta sa paghihiwalay at magpapakita ng mga hindi natunaw na particle. Gumagamit kami ng natatanging paraan ng produksyon na maaaring matiyak ang homogeneity ng microstructure at mapabuti ang mga mekanikal na katangian ng mga materyales.

Pangalan ng produkto		FeCoTa
Fe/wt%		Balanse	Balanse	Balanse
Co/wt%		21.6±0.5	21.9±0.5	20.2±0.5
Ta/wt%		41.1±0.8	39.4±0.8	44.3±0.8
Nilalaman ng karumihan ng metal（ppm）	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Nilalaman ng karumihan ng gas（ppm）	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Dalubhasa ang Rich Special Materials sa Paggawa ng Sputtering Target at maaaring gumawa ng Iron Cobalt Tantalum Sputtering Materials ayon sa mga detalye ng Customer. Para sa karagdagang impormasyon, mangyaring makipag-ugnayan sa amin.

Nakaraan: FeCo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Susunod: FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made