AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Manipis na Film PVD Coating Custom Made

Ang mga target ay inihanda sa pamamagitan ng paghahalo ng Aluminum at Silicon na mga pulbos na sinusundan ng compaction sa buong density. Ang mga materyal na kaya siksik ay opsyonal na sintered at pagkatapos ay nabuo sa nais na target na hugis. Ang aming Aluminum Silicon sputtering target ay available sa rectangular, circular o custom-made geometric forms, Aluminum content mula sa 10-90% atomic, at nagtatampok ng mataas na purity, homogeneous microstructure, high density at mahabang working life.

Ang Aluminum Silicon ay malawakang ginagamit sa mga industriya ng automotive, sasakyang panghimpapawid at konstruksiyon para sa natatanging kumbinasyon ng mga kanais-nais na katangian, kabilang ang magaan na timbang, magandang thermal conductivity at mekanikal na katangian. Ang density ng materyal na ito ay 2.6~2.7g/cm3, thermal conductivity coefficient 101~126W/(m·℃), tensile modulus 71.0GPa, fatigue limit ±45MPa. Ang mga aluminyo-silicon na haluang metal ay nagtataglay din ng mahusay na paglaban sa kaagnasan, kakayahang magamit, at kakayahang magamit. Ginagamit ang mga aluminyo-silicon na haluang metal sa iba't ibang mga application ng automotive, aerospace, at consumer na produkto, tulad ng mga bloke ng engine at cylinder liners, piston, bearing alloy na materyales, at mga bahagi ng consumer electronics.+2. Ito ay may mataas na punto ng pagkatunaw, ductility, tigas, at paglaban sa kaagnasan.