ขายส่ง ZrSi Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูงผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายสั่งทำพิเศษ

เซอร์โคเนียมซิลิคอน

ZrSi Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ภาพเด่น

คำอธิบายสั้น ๆ :

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	ซรซี
องค์ประกอบ	เซอร์โคเนียมซิลิคอน
ความบริสุทธิ์	99.5%，99.7%，99.9%，
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ PM
ขนาดที่มีจำหน่าย	ยาว≤200มม.,กว้าง≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์เซอร์โคเนียมซิลิคอนถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศและโลหะผสมพลังงาน

ปัจจุบันเซอร์โคเนียมสามารถปรับปรุงพฤติกรรมความแข็งและความต้านทานการกัดกร่อนได้

เซอร์โคเนียมซิลิคอนมุ่งเป้าไปที่ค่าการนำไฟฟ้าต่ำ และอาจลดความเค้นตกค้าง ซึ่งจะปรับปรุงความเสถียรของการเคลือบและยืดอายุการใช้งาน สารเคลือบสามารถใช้กับกระจก Low-E ได้เพื่อความสม่ำเสมอสูงและทนต่อการกัดกร่อน

เมื่อเปรียบเทียบกับซิลิคอนบริสุทธิ์ เป้าหมายการสปัตเตอร์เซอร์โคเนียมซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์สูงสามารถปรับปรุงความต้านทานการเสียดสีของการเคลือบที่สะสมได้อย่างมีนัยสำคัญ 4-6 เท่า

ดังนั้น Zr-Si จึงพร้อมสำหรับการใช้งานจริงมากมาย

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุเซอร์โคเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์ตามข้อกำหนดของลูกค้า หากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา

ก่อนหน้า: PbBi Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: ZrAl Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง