V สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
วาเนเดียม
คำอธิบายเป้าหมายวาเนเดียมสปัตเตอร์
วาเนเดียมเป็นโลหะแข็งและเหนียวซึ่งมีลักษณะเป็นสีเทาเงิน มันแข็งกว่าโลหะส่วนใหญ่และมีความต้านทานการกัดกร่อนต่อด่างและกรดได้ดี จุดหลอมเหลวของมันคือ 1890℃ และจุดเดือดคือ 3380℃ เลขอะตอมของมันคือ 23 และน้ำหนักอะตอมคือ 50.9414 มีโครงสร้างลูกบาศก์เป็นศูนย์กลางและมีสถานะออกซิเดชันในสารประกอบ +5, +4, +3 และ +2 มีจุดหลอมเหลว ความเหนียว ความแข็ง และความต้านทานการกัดกร่อนสูง
วานาเดียมถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมและการใช้งานหลายประเภท เช่น เครื่องยนต์ไอพ่น โครงอากาศความเร็วสูง เครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์ และโลหะผสมของเหล็ก
เป้าหมายสปัตเตอร์วานาเดียมที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นวัสดุที่สำคัญสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์และการเคลือบเลนส์ออพติคัล
การวิเคราะห์ทางเคมี
| ความบริสุทธิ์ | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | 0.1 | 0.05 | 0.02 | 0.01 |
| Al | 0.2 | 0.05 | 0.03 | 0.01 |
| Si | 0.15 | 0.1 | 0.05 | 0.01 |
| C | 0.03 | 0.02 | 0.01 | 0.01 |
| N | 0.01 | 0.01 | 0.01 | 0.01 |
| O | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.03 |
| สิ่งเจือปนโดยรวม | 0.3 | 0.1 | 0.05 | 0.01 |
บรรจุภัณฑ์เป้าหมายวานาเดียมสปัตเตอร์
เป้าหมายสปัตเตอร์วาเนเดียมของเราได้รับการติดแท็กและติดฉลากไว้ภายนอกอย่างชัดเจน เพื่อให้มั่นใจในการระบุตัวตนและการควบคุมคุณภาพอย่างมีประสิทธิภาพ มีการใช้ความระมัดระวังเป็นอย่างยิ่งเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายที่อาจเกิดขึ้นระหว่างการจัดเก็บหรือการขนส่ง
รับการติดต่อ
เป้าหมายการสปัตเตอร์วานาเดียมของ RSM นำเสนอความบริสุทธิ์และความสม่ำเสมอที่ยอดเยี่ยม มีจำหน่ายหลายรูปแบบ ความบริสุทธิ์ ขนาด และราคา เราเชี่ยวชาญในวัสดุเคลือบฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมคุณสมบัติที่ดีเยี่ยม เช่นเดียวกับความหนาแน่นสูงสุดที่เป็นไปได้และขนาดเกรนเฉลี่ยที่เล็กที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้ สำหรับการเคลือบแม่พิมพ์ การตกแต่ง ชิ้นส่วนยานยนต์ แก้ว E ต่ำ วงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ ตัวต้านทานฟิล์มบาง จอแสดงผลกราฟิก การบินและอวกาศ การบันทึกด้วยแม่เหล็ก หน้าจอสัมผัส เซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง และการใช้งานการตกสะสมไอทางกายภาพ (PVD) อื่นๆ กรุณาส่งคำถามถึงเราสำหรับการกำหนดราคาปัจจุบันเกี่ยวกับเป้าหมายสปัตเตอร์และวัสดุการทับถมอื่น ๆ ที่ไม่อยู่ในรายการ
