ขายส่ง TiTa Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd ที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ผู้ผลิตและจำหน่าย

ไทเทเนียมแทนทาลัม

TiTa Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงกำหนดเองสร้างภาพเด่น

คำอธิบายสั้น ๆ :

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	ติต้า
องค์ประกอบ	ไทเทเนียมแทนทาลัม
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ PM
ขนาดที่มีจำหน่าย	ยาว≤200มม.,กว้าง≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมแทนทาลัมถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมและการหล่อ โลหะผสม Ti-Ta เป็นวัสดุที่สำคัญสำหรับส่วนประกอบอุปกรณ์กำจัดกากนิวเคลียร์ นอกจากนี้ยังมีคุณสมบัติเชิงกลที่เหนือกว่า ซึ่งถือเป็นข้อพิจารณาอันดับแรกในการใช้เป็นวัสดุปลูกถ่ายกระดูก นอกจากนี้ การเคลือบ TiTaN ยังถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมเครื่องมือตัดแม่พิมพ์ เนื่องจากมีความทนทานต่อการสึกหรอและการกัดกร่อนที่ดีเยี่ยม

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์แทนทาลัมไทเทเนียมตามข้อกำหนดของลูกค้า หากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา

ก่อนหน้า: TiNi Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: FeV สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง