ยินดีต้อนรับสู่เว็บไซต์ของเรา!

บ้าน
เกี่ยวกับเรา
- ทัวร์โรงงาน
- วีดีโอ
สินค้า
คำถามที่พบบ่อย
ข่าว
ติดต่อเรา

แบนเนอร์รุอิจิ(2)

เป้าหมายสปัตเตอร์

บ้าน
สินค้า

หมวดหมู่

เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะ

สินค้าแนะนำ

CuIn Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd Coa...
CuZn Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd Coa...
CuSn Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd Coa...
CuW สปัตเตอร์เป้าหมายฟิล์มบาง Pvd ความบริสุทธิ์สูง
CuTi Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd ที่มีความบริสุทธิ์สูง
CuNiMn Sputtering Target ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง Pvd C...
CuNi Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd ที่มีความบริสุทธิ์สูง
CuMo Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd Coa...
CuCr Sputtering Target ฟิล์มบาง Pvd Coa...
CrW Alloy Sputtering Target ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง Pv...

สินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์กราไฟท์คาร์บอนคุณภาพสูงสำหรับการเคลือบ pvd
TiSi Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
คุณภาพสูงสำหรับเหล็กความบริสุทธิ์สูง Bloom เหล็กบริสุทธิ์
เป้าหมายสปัตเตอร์ Ti ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสูญญากาศ
คาร์บอน
โบรอน
เม็ดไทเทเนียม
WNiFe สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
CuZn Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
FeCo Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
TiAl Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง
NiFe Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

1 2 3 4 5 6 ถัดไป >>> หน้า 1 / 14

ติดต่อเรา

60 Jiaodadonglu, Haidian District, ปักกิ่ง, จีน 100044
โทร:0312-2593848
โทรศัพท์บ้าน:+86+15732280449
วอทส์แอพพ์:15732280449
อีเมล:rsmsales@rsmaterial.com

จดหมายใหม่

หากมีข้อสงสัยเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์หรือรายการราคาของเรา โปรดฝากอีเมลของคุณไว้กับเรา แล้วเราจะติดต่อกลับภายใน 24 ชั่วโมง

สอบถามตอนนี้

ทางสังคม

© ลิขสิทธิ์ - 2010-2024 : สงวนลิขสิทธิ์สินค้ายอดนิยม, แผนผังเว็บไซต์
โลหะผสมเอนโทรปีสูง, แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง, วัสดุเคลือบ, เป้าหมายสปัตเตอร์, การชุบอาร์คไอออน, โลหะที่มีความบริสุทธิ์สูง,

ส่งอีเมล์

สไกป์

วอทส์แอพพ์

กด Enter เพื่อค้นหาหรือกด ESC เพื่อปิด