ยินดีต้อนรับสู่เว็บไซต์ของเรา!
ข่าว
-
ความแตกต่างระหว่างการเคลือบแบบระเหยและการเคลือบแบบสปัตเตอร์
ดังที่เราทุกคนรู้กันดีว่าการระเหยแบบสุญญากาศและการสปัตเตอร์ไอออนมักใช้ในการเคลือบสุญญากาศ อะไรคือความแตกต่างระหว่างการเคลือบแบบระเหยและการเคลือบแบบสปัตเตอร์? ต่อไป ผู้เชี่ยวชาญด้านเทคนิคจาก RSM จะแบ่งปันกับเรา การเคลือบการระเหยแบบสุญญากาศคือการให้ความร้อนแก่วัสดุที่จะระเหย...อ่านเพิ่มเติม -
ข้อกำหนดเฉพาะของเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม
เมื่อเร็ว ๆ นี้เพื่อนหลายคนถามถึงลักษณะของเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ เพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการสปัตเตอร์และรับประกันคุณภาพของฟิล์มที่สะสม ข้อกำหนดสำหรับลักษณะของเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมมีอะไรบ้าง ตอนนี้...อ่านเพิ่มเติม -
การประยุกต์ใช้วัสดุเป้าหมายสปัตเตอร์โมลิบดีนัม
โมลิบดีนัมเป็นองค์ประกอบโลหะที่ใช้เป็นหลักในอุตสาหกรรมเหล็กและเหล็กกล้า ซึ่งส่วนใหญ่ใช้โดยตรงในการผลิตเหล็กหรือเหล็กหล่อหลังจากกดโมลิบดีนัมออกไซด์อุตสาหกรรมแล้วส่วนเล็ก ๆ ของมันจะละลายเป็นเฟอร์โรโมลิบดีนัมแล้วนำไปใช้ในเหล็ก การทำ. สามารถเพิ่มประสิทธิภาพการ...อ่านเพิ่มเติม -
ความรู้การบำรุงรักษาเป้าหมายสปัตเตอร์
เพื่อนหลายคนเกี่ยวกับการบำรุงรักษาเป้าหมายมีคำถามไม่มากก็น้อย เมื่อเร็ว ๆ นี้ยังมีลูกค้าจำนวนมากที่ให้คำปรึกษาเกี่ยวกับการบำรุงรักษาปัญหาที่เกี่ยวข้องกับเป้าหมาย ให้บรรณาธิการของ RSM เพื่อแบ่งปันความรู้เกี่ยวกับการบำรุงรักษาเป้าหมายสปัตเตอร์ ควรสปัตเตอร์อย่างไร ...อ่านเพิ่มเติม -
หลักการเคลือบสูญญากาศ
การเคลือบสูญญากาศหมายถึงการให้ความร้อนและการระเหยแหล่งการระเหยในสุญญากาศหรือการสปัตเตอร์ด้วยการทิ้งระเบิดไอออนแบบเร่ง และฝากไว้บนพื้นผิวของสารตั้งต้นเพื่อสร้างฟิล์มชั้นเดียวหรือหลายชั้น หลักการเคลือบสูญญากาศคืออะไร? ต่อไป บรรณาธิการของ RSM จะ...อ่านเพิ่มเติม -
เป้าหมายแบบเคลือบคืออะไร
การเคลือบสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสุญญากาศได้กลายเป็นหนึ่งในเทคโนโลยีที่สำคัญที่สุดในการผลิตการเคลือบทางอุตสาหกรรม อย่างไรก็ตาม ยังมีเพื่อนๆ อีกหลายคนที่มีคำถามเกี่ยวกับเนื้อหาที่เกี่ยวข้องของเป้าหมายการเคลือบ ตอนนี้ขอเชิญผู้เชี่ยวชาญของเป้าหมายสปัตเตอร์ RSM มาแชร์...อ่านเพิ่มเติม -
วิธีการประมวลผลวัสดุเป้าหมายอะลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง
เมื่อเร็ว ๆ นี้ มีการสอบถามจากลูกค้ามากมายเกี่ยวกับวิธีการแปรรูปเป้าหมายอะลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง ผู้เชี่ยวชาญด้านเป้าหมายของ RSM ชี้ให้เห็นว่าเป้าหมายอะลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูงสามารถแบ่งออกเป็นสองประเภท: โลหะผสมอลูมิเนียมที่มีรูปร่างผิดปกติและโลหะผสมอลูมิเนียมหล่อตามการประมวลผล .อ่านเพิ่มเติม -
การใช้เป้าหมายไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง
ดังที่เราทุกคนทราบกันดีว่าความบริสุทธิ์เป็นหนึ่งในตัวชี้วัดประสิทธิภาพหลักของเป้าหมาย ในการใช้งานจริง ข้อกำหนดด้านความบริสุทธิ์ของเป้าหมายก็แตกต่างกันเช่นกัน เมื่อเปรียบเทียบกับไทเทเนียมบริสุทธิ์ทางอุตสาหกรรมทั่วไป ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูงมีราคาแพงและมีขอบเขตการใช้งานที่แคบ ส่วนใหญ่จะใช้...อ่านเพิ่มเติม -
หมายเหตุของการเคลือบสุญญากาศแบบสปัตเตอร์แบบแมกนีตรอนแบบ PVD
ชื่อเต็มของ PVD คือการสะสมไอทางกายภาพ ซึ่งเป็นตัวย่อของภาษาอังกฤษ (การสะสมไอทางกายภาพ) ปัจจุบัน PVD ส่วนใหญ่ประกอบด้วยการเคลือบแบบระเหย การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ การเคลือบไอออนแบบหลายอาร์ค การสะสมไอสารเคมี และรูปแบบอื่น ๆ โดยทั่วไปแล้ว สายพาน PVD...อ่านเพิ่มเติม -
ขอบเขตการใช้งานหลักของเป้าหมายทองแดงที่มีความบริสุทธิ์สูง
เป้าหมายทองแดงที่มีความบริสุทธิ์สูงส่วนใหญ่ใช้ในด้านใด ในประเด็นนี้ ให้บรรณาธิการจาก RSM แนะนำขอบเขตการใช้งานของเป้าหมายทองแดงที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านประเด็นต่อไปนี้ เป้าหมายทองแดงที่มีความบริสุทธิ์สูงส่วนใหญ่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และข้อมูล เช่น อุตสาหกรรมบูรณาการ...อ่านเพิ่มเติม -
เป้าหมายทังสเตน
เป้าหมายทังสเตนคือเป้าหมายทังสเตนบริสุทธิ์ซึ่งทำจากวัสดุทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์มากกว่า 99.95% มีความมันวาวสีขาวเงินเมทัลลิก มันทำจากผงทังสเตนบริสุทธิ์เป็นวัตถุดิบหรือที่เรียกว่าเป้าหมายสปัตเตอร์ทังสเตน มีข้อดีคือมีจุดหลอมเหลวสูง ยืดหยุ่นดี...อ่านเพิ่มเติม -
คำอธิบายโดยละเอียดเกี่ยวกับความรู้ทางเทคนิคหลักของเป้าหมายทองแดง
ด้วยความต้องการของตลาดที่เพิ่มขึ้นสำหรับเป้าหมาย จึงมีเป้าหมายหลายประเภทมากขึ้น เช่น เป้าหมายโลหะผสม เป้าหมายสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก ฯลฯ ความรู้ด้านเทคนิคเกี่ยวกับเป้าหมายทองแดงมีอะไรบ้าง ตอนนี้เรามาแบ่งปันความรู้ทางเทคนิคของเป้าหมายทองแดงกับเรา 1. De...อ่านเพิ่มเติม