ความแตกต่างระหว่างเป้าหมายการชุบด้วยไฟฟ้าและเป้าหมายการสปัตเตอร์

ด้วยการปรับปรุงมาตรฐานการครองชีพของผู้คนและการพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีอย่างต่อเนื่อง ผู้คนมีความต้องการที่สูงขึ้นเรื่อยๆ สำหรับประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์เคลือบตกแต่งที่ทนต่อการสึกหรอ ทนต่อการกัดกร่อน และทนต่ออุณหภูมิสูง แน่นอนว่าการเคลือบยังสามารถทำให้สีของวัตถุเหล่านี้สวยงามได้อีกด้วย แล้วอะไรคือความแตกต่างระหว่างการรักษาเป้าหมายการชุบด้วยไฟฟ้าและเป้าหมายการสปัตเตอร์? ให้ผู้เชี่ยวชาญจากแผนกเทคโนโลยีของ RSM อธิบายให้คุณฟัง

　　เป้าหมายการชุบด้วยไฟฟ้า

หลักการของการชุบด้วยไฟฟ้านั้นสอดคล้องกับหลักการของการกลั่นทองแดงด้วยไฟฟ้า เมื่อทำการชุบด้วยไฟฟ้า โดยทั่วไปอิเล็กโทรไลต์ที่มีไอออนโลหะของชั้นการชุบจะถูกนำมาใช้เพื่อเตรียมสารละลายการชุบ จุ่มผลิตภัณฑ์โลหะที่จะชุบลงในสารละลายการชุบและเชื่อมต่อกับขั้วลบของแหล่งจ่ายไฟ DC เป็นแคโทด โลหะเคลือบถูกใช้เป็นขั้วบวกและเชื่อมต่อกับขั้วบวกของแหล่งจ่ายไฟ DC เมื่อจ่ายกระแสไฟตรงแรงดันต่ำ โลหะแอโนดจะละลายในสารละลายและกลายเป็นไอออนบวกและเคลื่อนไปยังแคโทด ไอออนเหล่านี้จะรับอิเล็กตรอนที่แคโทดและถูกรีดิวซ์เป็นโลหะ ซึ่งปกคลุมอยู่บนผลิตภัณฑ์โลหะที่จะชุบ

　　เป้าหมายสปัตเตอร์

หลักการหลักคือการใช้การปล่อยแสงเพื่อระดมยิงไอออนอาร์กอนบนพื้นผิวเป้าหมาย และอะตอมของเป้าหมายจะถูกดีดออกมาและสะสมอยู่บนพื้นผิวของสารตั้งต้นเพื่อสร้างฟิล์มบางๆ คุณสมบัติและความสม่ำเสมอของฟิล์มสปัตเตอร์จะดีกว่าฟิล์มที่สะสมด้วยไอ แต่ความเร็วในการสะสมจะช้ากว่าฟิล์มที่สะสมด้วยไอมาก อุปกรณ์สปัตเตอร์แบบใหม่เกือบใช้แม่เหล็กแรงสูงกับอิเล็กตรอนแบบก้นหอยเพื่อเร่งการแตกตัวเป็นไอออนของอาร์กอนรอบๆ เป้าหมาย ซึ่งเพิ่มความน่าจะเป็นที่จะเกิดการชนกันระหว่างเป้าหมายกับไอออนอาร์กอน และปรับปรุงอัตราการสปัตเตอร์ ฟิล์มชุบโลหะส่วนใหญ่เป็น DC สปัตเตอร์ ในขณะที่วัสดุแม่เหล็กเซรามิกที่ไม่นำไฟฟ้าคือการสปัตเตอร์ RF AC หลักการพื้นฐานคือการใช้การปล่อยแสงในสุญญากาศเพื่อโจมตีพื้นผิวของชิ้นงานด้วยอาร์กอนไอออน แคตไอออนในพลาสมาจะเร่งให้พุ่งไปที่พื้นผิวอิเล็กโทรดลบซึ่งเป็นวัสดุสปัตเตอร์ การทิ้งระเบิดนี้จะทำให้วัสดุเป้าหมายหลุดออกมาและสะสมบนพื้นผิวเพื่อสร้างฟิล์มบางๆ

　　เกณฑ์การคัดเลือกวัสดุเป้าหมาย

(1) เป้าหมายควรมีความแข็งแรงเชิงกลที่ดีและมีเสถียรภาพทางเคมีหลังจากเกิดฟิล์ม

(2) วัสดุฟิล์มสำหรับฟิล์มสปัตเตอร์ปฏิกิริยาจะต้องง่ายต่อการสร้างฟิล์มผสมด้วยก๊าซปฏิกิริยา

(3) ต้องประกอบเป้าหมายและวัสดุพิมพ์อย่างแน่นหนา มิฉะนั้น จะต้องนำวัสดุฟิล์มที่มีแรงยึดเกาะที่ดีกับวัสดุพิมพ์ และจะต้องสปัตเตอร์ฟิล์มด้านล่างก่อน จากนั้นจะต้องเตรียมชั้นฟิล์มที่ต้องการ

(4) เพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพของฟิล์ม ยิ่งความแตกต่างระหว่างค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนของเป้าหมายและวัสดุพิมพ์น้อยลงเท่าไรก็ยิ่งดีเท่านั้น เพื่อลดอิทธิพลของความเครียดจากความร้อนของฟิล์มสปัตเตอร์

(5) ตามข้อกำหนดการใช้งานและประสิทธิภาพของฟิล์ม เป้าหมายที่ใช้จะต้องเป็นไปตามข้อกำหนดทางเทคนิคด้านความบริสุทธิ์ ปริมาณสิ่งเจือปน ความสม่ำเสมอของส่วนประกอบ ความแม่นยำในการตัดเฉือน ฯลฯ