การประยุกต์ใช้เป้าหมายสปัตเตอร์ชิปเซมิคอนดักเตอร์

บริษัท ริช สเปเชียล แมททีเรียล จำกัด สามารถผลิตเป้าหมายการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองแดง เป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม ฯลฯ สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

ชิปเซมิคอนดักเตอร์มีข้อกำหนดทางเทคนิคสูงและราคาสูงสำหรับเป้าหมายสปัตเตอร์ ข้อกำหนดด้านความบริสุทธิ์และเทคโนโลยีของเป้าหมายสปัตเตอร์นั้นสูงกว่าข้อกำหนดของจอแบน เซลล์แสงอาทิตย์ และการใช้งานอื่นๆ ชิปเซมิคอนดักเตอร์กำหนดมาตรฐานที่เข้มงวดอย่างยิ่งเกี่ยวกับความบริสุทธิ์และโครงสร้างจุลภาคภายในของเป้าหมายสปัตเตอร์ หากปริมาณสิ่งเจือปนของเป้าหมายสปัตเตอร์สูงเกินไป ฟิล์มที่ก่อตัวขึ้นจะไม่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าตามที่ต้องการ ในกระบวนการสปัตเตอร์ ง่ายต่อการสร้างอนุภาคบนแผ่นเวเฟอร์ ส่งผลให้เกิดไฟฟ้าลัดวงจรหรือไฟฟ้าลัดวงจร ซึ่งส่งผลกระทบร้ายแรงต่อประสิทธิภาพของฟิล์ม โดยทั่วไปแล้ว เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูงสุดเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการผลิตชิป ซึ่งโดยปกติคือ 99.9995% (5N5) หรือสูงกว่า

เป้าหมายสปัตเตอร์ถูกนำมาใช้สำหรับการผลิตชั้นกั้นและชั้นสายไฟโลหะบรรจุภัณฑ์ ในกระบวนการผลิตแผ่นเวเฟอร์ เป้าหมายส่วนใหญ่จะใช้เพื่อสร้างชั้นสื่อกระแสไฟฟ้า ชั้นกั้น และตะแกรงโลหะของแผ่นเวเฟอร์ ในกระบวนการบรรจุชิป เป้าหมายการสปัตเตอร์จะใช้เพื่อสร้างชั้นโลหะ ชั้นสายไฟ และวัสดุโลหะอื่นๆ ใต้กระแทก แม้ว่าปริมาณวัสดุเป้าหมายที่ใช้ในการผลิตแผ่นเวเฟอร์และบรรจุภัณฑ์ชิปจะมีน้อย ตามสถิติของ SEMI ต้นทุนของวัสดุเป้าหมายในกระบวนการผลิตแผ่นเวเฟอร์และบรรจุภัณฑ์อยู่ที่ประมาณ 3% อย่างไรก็ตาม คุณภาพของเป้าหมายสปัตเตอร์ส่งผลโดยตรงต่อความสม่ำเสมอและประสิทธิภาพของชั้นสื่อกระแสไฟฟ้าและชั้นกั้น ซึ่งส่งผลต่อความเร็วในการส่งข้อมูลและความเสถียรของชิป ดังนั้นเป้าหมายการสปัตเตอร์จึงเป็นหนึ่งในวัตถุดิบหลักสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์