ขายส่ง NbTi สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่าย

ไนโอเบียมไทเทเนียม

NbTi สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเองภาพเด่น

คำอธิบายสั้น ๆ :

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	เอ็นบีทีไอ
องค์ประกอบ	ไนโอเบียมไทเทเนียม
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ
ขนาดที่มีจำหน่าย	ยาว≤2000มม.,กว้าง≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์ไนโอเบียมไทเทเนียมถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศ ปริมาณไทเทเนียมโดยทั่วไปคือ 66% (ประมาณ 50 น้ำหนัก%) เป็นวัสดุที่มีการนำยิ่งยวดเป็นพิเศษและสามารถนำไปทำเป็นวัสดุเชิงผสมได้หลากหลายโดยกระบวนการเปลี่ยนรูปและการบำบัดความร้อนแบบธรรมดา

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ไทเทเนียมไนโอเบียมตามข้อกำหนดของลูกค้า หากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา

ก่อนหน้า: MoCu Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษ

ต่อไป: TaNb Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง