ขายส่ง FeMn สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่าย

เหล็กแมงกานีส

FeMn สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเองภาพเด่น

คำอธิบายสั้น ๆ :

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	FeMn
องค์ประกอบ	เหล็กแมงกานีส
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ
ขนาดที่มีจำหน่าย	L≤2000มม.,W≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสมแมงกานีสเหล็กถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศ
แมงกานีสเป็นโลหะเชิงกลยุทธ์ที่สำคัญ ผู้บริโภคหลักของแมงกานีสคืออุตสาหกรรมเหล็กและเหล็กกล้า แมงกานีสที่สร้างขึ้นมากกว่า 95% ถูกใช้ในรูปของโลหะผสมเฟอร์โรแมงกานีสและซิลิโคแมงกานีสเพื่อผลิตเหล็กและเหล็ก สามารถปรับขนาดเกรนและปรับปรุงการเจาะความแข็งได้ แมงกานีสอาจเป็นสารเติมแต่งโลหะผสมเพื่อปรับปรุงความต้านทานการกัดกร่อนและความสามารถในการขึ้นรูปได้

โลหะผสมเหล็กแมงกานีสสามารถใช้เป็นสารกำจัดออกซิไดซ์และสารเติมแต่งโลหะผสมได้ อุตสาหกรรมที่มีโลหะผสมอยู่ทั่วไป ได้แก่ การบินและอวกาศ ชีวการแพทย์ น้ำมันและก๊าซ การทหาร อิเล็กทรอนิกส์ พลังงานใหม่ วงจรรวม การจัดเก็บข้อมูล และยานยนต์

Rich Special Materials เชี่ยวชาญในการผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ริ่งแมงกานีสเหล็กตามข้อกำหนดของลูกค้า หากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา

ก่อนหน้า: FeAl Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: FeNb Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง