ขายส่ง AlTi โลหะผสมสปัตเตอร์เป้าหมายผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายที่มีความบริสุทธิ์สูง

อลูมิเนียม ไทเทเนียม

AlTi โลหะผสมสปัตเตอร์เป้าหมายมีความบริสุทธิ์สูงรูปภาพเด่น

คำอธิบายสั้น ๆ :

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	อัลติ
องค์ประกอบ	อลูมิเนียม ไทเทเนียม
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ PM
ขนาดที่มีจำหน่าย	L≤2000มม.,W≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

ข้อกำหนดด้านคุณภาพเป้าหมายสำหรับการเคลือบสปัตเตอร์นั้นสูงกว่าข้อกำหนดของอุตสาหกรรมวัสดุแบบดั้งเดิม โครงสร้างจุลภาคที่สม่ำเสมอของชิ้นงานส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพการสปัตเตอร์ เรามีระบบการจัดการคุณภาพที่สมบูรณ์ และเราเลือกวัตถุดิบที่มีความบริสุทธิ์สูงและผสมให้เข้ากันเพื่อให้มั่นใจว่าเป็นเนื้อเดียวกัน เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสมไทเทเนียมอลูมิเนียมผลิตโดยวิธีการกดร้อนแบบสุญญากาศ

เป้าหมายสปัตเตอร์อลูมิเนียม ไทเทเนียม ของเราสามารถให้การเคลือบไนไตรด์ที่ทนต่อการเกิดออกซิเดชันได้ดีเยี่ยม นั่นคือ ไทเทเนียม อลูมิเนียมไนไตรด์ (TiAlN) TiAlN เป็นฟิล์มกระแสหลักในปัจจุบันสำหรับเครื่องมือตัด ชิ้นส่วนเลื่อน และการเคลือบไทรโบ มีความแข็ง ความเหนียว สูง ทนต่อการสึกหรอ และอุณหภูมิออกซิเดชัน

เป้าหมาย AlTi โดยทั่วไปของเราและคุณสมบัติต่างๆ

	Ti-75อัลที่%	Ti-70อัลที่%	ที-67อัลที่%	Ti-60อัลที่%	Ti-50อัลที่%	Ti-30อัลที่%	Ti-20อัลที่%	Ti-14อัลที่%
ความบริสุทธิ์ (%)	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
ความหนาแน่น-กรัม/ซม³-	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
Gฝน ขนาด(ไมโครเมตร)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
กระบวนการ	สะโพก	สะโพก	สะโพก	สะโพก	สะโพก/วาร์	วีเออาร์	วีเออาร์	วีเออาร์

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเชี่ยวชาญในการผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุอลูมิเนียมไทเทเนียมสปัตเตอร์ตามข้อกำหนดของลูกค้า เราสามารถจัดหารูปทรงเรขาคณิตได้หลากหลาย: ท่อ, อาร์คแคโทด, ระนาบหรือแบบสั่งทำพิเศษ และอะลูมิเนียมช่วงสัดส่วนที่กว้าง ผลิตภัณฑ์ของเรามีคุณสมบัติเชิงกลที่ดีเยี่ยม โครงสร้างจุลภาคที่เป็นเนื้อเดียวกัน พื้นผิวขัดเงาโดยไม่มีการแยกส่วน รูพรุนหรือรอยแตก หากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา

ก่อนหน้า: AlNi Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: AlTa Sputtering Target ฟิล์มบางเคลือบ PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษ