மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் வகைகள்

சந்தை தேவையின் அதிகரிப்புடன், மேலும் மேலும் பல வகையான ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் தொடர்ந்து புதுப்பிக்கப்படுகின்றன. சிலர் பரிச்சயமானவர்கள், சிலர் வாடிக்கையாளர்களுக்கு அறிமுகமில்லாதவர்கள். இப்போது, ​​மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் வகைகள் என்ன என்பதை உங்களுடன் பகிர்ந்து கொள்ள விரும்புகிறோம்.

ஸ்பட்டரிங் இலக்கு பின்வரும் வகைகளைக் கொண்டுள்ளது: உலோகத் துண்டிக்கும் பூச்சு இலக்கு, அலாய் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு இலக்கு, பீங்கான் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு இலக்கு, போரைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, கார்பைடு பீங்கான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, ஃவுளூரைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, நைட்ரைடு செராமிக் செராமிக் இலக்கு, செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, சிலிசைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, சல்பைட் செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, டெல்லூரைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, பிற பீங்கான் இலக்குகள், குரோமியம் டோப் செய்யப்பட்ட சிலிக்கான் ஆக்சைடு செராமிக் இலக்கு (CR SiO), இண்டியம் பாஸ்பைடு இலக்கு (INP), முன்னணி arspbaenided, முன்னணி இலக்கு (InAs).

Magnetron sputtering பொதுவாக இரண்டு வகைகளாகப் பிரிக்கப்படுகிறது: DC sputtering மற்றும் RF sputtering. DC sputtering உபகரணங்களின் கொள்கை எளிதானது, மேலும் உலோகத்தை sputtering போது அதன் விகிதம் வேகமாக உள்ளது. RF sputtering பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது. கடத்தும் தரவைத் தெளிப்பதைத் தவிர, இது கடத்தும் தரவைத் தெளிக்க முடியும். அதே நேரத்தில், ஆக்சைடுகள், நைட்ரைடுகள் மற்றும் கார்பைடுகள் போன்ற கூட்டுத் தரவுகளைத் தயாரிக்க, ஸ்பட்டரிங் இலக்கு எதிர்வினை ஸ்பட்டரிங் செய்கிறது. RF அதிர்வெண் அதிகரித்தால், அது மைக்ரோவேவ் பிளாஸ்மா ஸ்பட்டரிங் ஆகிவிடும். தற்போது, ​​எலக்ட்ரான் சைக்ளோட்ரான் ரெசோனன்ஸ் (ECR) மைக்ரோவேவ் பிளாஸ்மா ஸ்பட்டரிங் பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.