Tofauti Kati ya Mipako ya Uvukizi na Mipako ya Kunyunyizia

Kama tunavyojua sote, njia zinazotumiwa sana katika upakaji wa utupu ni upitishaji hewa wa utupu na upakaji chumvi. Kuna tofauti gani kati ya mipako ya transpiration na mipako ya sputtering Mengiwatu kuwa na maswali kama hayo. Wacha tushiriki nawe tofauti kati ya mipako ya kupitisha hewa na mipako ya sputtering

Filamu ya upitishaji hewa wa utupu ni kuwasha data ili kupitisha hewa kwenye joto lisilobadilika kwa njia ya kupokanzwa upinzani au boriti ya elektroni na makombora ya laser katika mazingira yenye kiwango cha utupu kisichopungua 10-2Pa, ili nishati ya mtetemo wa mafuta ya molekuli au. atomi katika data huzidi nishati inayofunga ya uso, hivyo kwamba molekuli nyingi au atomi hupita au kuongezeka, na kuziweka moja kwa moja kwenye substrate ili kuunda filamu. Mipako ya ioni ya kunyunyiza hutumia msogeo wa juu wa ioni chanya inayotokana na umwagaji wa gesi chini ya athari ya uwanja wa umeme ili kushambulia shabaha kama cathode, ili atomi au molekuli kwenye sehemu inayolengwa zitoroke na kuziweka kwenye uso wa sehemu ya kazi iliyobanwa kuunda. filamu inayohitajika.

Njia inayotumiwa zaidi ya mipako ya utupu wa utupu ni njia ya kupokanzwa ya upinzani. Faida zake ni muundo rahisi wa chanzo cha joto, gharama nafuu na uendeshaji rahisi. Hasara zake ni kwamba haifai kwa metali za kinzani na vyombo vya habari vinavyopinga joto la juu. Inapokanzwa boriti ya elektroni na inapokanzwa laser inaweza kuondokana na hasara za kupokanzwa upinzani. Katika upashaji joto wa boriti ya elektroni, boriti ya elektroni inayolengwa hutumika kupasha joto data iliyoganda moja kwa moja, na nishati ya kinetiki ya boriti ya elektroni huwa nishati ya joto kufanya upitishaji wa data. Kupokanzwa kwa laser hutumia leza ya nguvu ya juu kama chanzo cha kupokanzwa, lakini kutokana na gharama ya juu ya leza yenye nguvu ya juu, inaweza tu kutumika katika idadi ndogo ya maabara za utafiti.

Ustadi wa kunyunyiza ni tofauti na ustadi wa kupumua kwa utupu. Kunyunyiza hurejelea hali ambayo chembe zilizochajiwa hujirusha kwenye uso (lengo) la mwili, ili atomi au molekuli dhabiti zitoke kutoka kwenye uso. Wengi wa chembe zinazotolewa ni atomiki, ambayo mara nyingi huitwa atomi zilizopigwa. Chembe zilizotapakaa zinazotumika kwa shabaha za kuweka makombora zinaweza kuwa elektroni, ayoni au chembe zisizoegemea upande wowote. Kwa sababu ayoni ni rahisi kupata nishati ya kinetiki inayohitajika chini ya uwanja wa umeme, ayoni huchaguliwa zaidi kama chembe za makombora.

Mchakato wa sputtering unategemea kutokwa kwa mwanga, yaani, ioni za sputtering hutoka kwa kutokwa kwa gesi. Ustadi tofauti wa kunyunyiza una njia tofauti za kutokwa kwa mwanga. DC diode sputtering hutumia kutokwa kwa mwanga wa DC; Triode sputtering ni kutokwa kwa mwanga unaoungwa mkono na cathode ya moto; RF sputtering hutumia kutokwa kwa mwanga wa RF; Kunyunyiza kwa sumaku ni utokaji wa mwanga unaodhibitiwa na uwanja wa sumaku wa annular.

Ikilinganishwa na mipako ya utupu wa utupu, mipako ya sputtering ina faida nyingi. Ikiwa dutu yoyote inaweza kumwagika, hasa vipengele na misombo yenye kiwango cha juu cha kuyeyuka na shinikizo la chini la mvuke; Kushikamana kati ya filamu iliyopigwa na substrate ni nzuri; Uzani wa juu wa filamu; Unene wa filamu unaweza kudhibitiwa na kurudiwa ni nzuri. Hasara ni kwamba vifaa ni ngumu na vinahitaji vifaa vya juu-voltage.

Kwa kuongeza, mchanganyiko wa njia ya kupumua na njia ya sputtering ni ion plating. Faida za njia hii ni kushikamana kwa nguvu kati ya filamu na substrate, kiwango cha juu cha utuaji na msongamano mkubwa wa filamu.