Målmaterial för metallförstoftning, beläggningsmaterial för förstoftning av beläggningslegeringar, beläggningsmaterial för förstoftning av keramiskt förstoftande, målmaterial för boridförstoftning, målmaterial för förstoftning av karbid, keramiskt målmaterial för förstoftning av fluorid, keramiskt målmaterial för förstoftning av nitrid, keramiskt mål för oxid, keramiskt målmaterial för förstoftning av selenid, Silicid keramiskt sputteringmålmaterial, sulfidkeramiskt sputtermålmaterial, Telluridkeramiskt sputtermål, annat keramiskt mål, kromdopat kiseloxidkeramiskt mål (CR-SiO), indiumfosfidmål (InP), blyarsenidmål (PbAs), indiumarsenidmål (InAs).
Sputtringsmålmaterial med hög renhet och hög densitet är:
Sputtrande målmaterial (renhet: 99,9%-99,999%)
1. Metallmål:
Nickelmål, Ni, Titanmål, Ti, zinkmål, Zn, krommål, Cr, magnesiummål, Mg, Niobmål, Nb, Tennmål, Sn, aluminiummål, Al, Indiummål, In, Järnmål, Fe, Zirkoniumaluminiummål, ZrAl, Titaniumaluminiummål, TiAl, Zirkoniummål, Zr, aluminium-kiselmål, AlSi, kiselmål, Si, kopparmål Cu, tantalmål T, A, Germaniummål, Ge, silvermål, Ag, koboltmål, Co, guldmål, Au, gadoliniummål, Gd, lantanmål, La, yttriummål, Y, ceriummål, Ce, volframmål, W, mål av rostfritt stål, nickel-krommål, NiCr, hafniummål, Hf, molybdenmål, Mo, Fe-Ni mål, FeNi, volframmål, W, etc.
2. Keramiskt målmaterial
ITO-målmål, järnoxid, magnesiumoxidmål, mål, mål, kiselkarbid kiselnitrid titannitridmålmål, mål, zinksulfid, zinkoxid, kromoxid, kiseldioxid, mål, mål, mål ett kiseloxid, ceriumoxidmål, mål, fem zirkoniumdioxid syre HuaEr niob mål mål, mål, titan dioxid, zirkoniumdioxid, hafniummål, mål, titandiboriddiborid-zirkoniummål, volframtrioxidmål, Aluminiumtrioxidmål, tantalpentaoxid, niobpentaoxidmål, magnesiumfluoridmål, yttriumfluoridmål, zinkselenidmål, silikonnitridmål, aluminiumnitridmål, bornitridmål, titannitrid mål, kiselkarbidmål, litiumniobatmål, praseodymiumtitanatmål, bariumtitanatmål, lantantitanatmål, nickeloxidmål, sputtermål, etc.
Posttid: 2022-05-05