High Purity Yttrium Target — En viktig medlem av PVD-beläggning

Vad är yttriumsputteringsmål?
Yttriummål produceras huvudsakligen av metallelementet yttriumförstoftningsmål, eftersom yttriumelement (Y) är ett av de sällsynta jordartsmetallelementen, så yttriummål är också känt som sällsynta jordartsmetallmål.
Yttriummål används huvudsakligen i sputtringsdepositionsteknik. Sputtringsteknik är en av de fysiska ångavsättningsteknikerna (PVD) och är en av huvudteknikerna för framställning av elektroniska tunnfilmsmaterial. Genom att bombardera ytan av målet med högenergipartiklar (såsom joner eller elektronstrålar), sputteras målatomerna eller molekylerna ut och avsätts på ett annat substrat för att bilda den önskade filmen eller beläggningen.
Yttriummålet är helt enkelt källmaterialet för den önskade filmen eller beläggningen framställd med PVD-tekniken.

Vad ärdeyttrium sputtering mål används för?

Yttriummål har ett brett spektrum av applikationer inom flera områden, följande är de huvudsakliga applikationsområdena:

1. Halvledarmaterial: Inom halvledarindustrin används yttriummål för att producera specifika lager i halvledarmaterial eller elektroniska komponenter, såsom transistorer, integrerade kretsar etc.
2. Optisk beläggning: Inom optikområdet kan yttriummål användas för att framställa optiska beläggningar med högt brytningsindex och låg spridningshastighet, som spelar en viktig roll i produktionen av optiska enheter som lasrar och optiska filter.
3. Tunnfilmsavsättning: Yttriummålet intar en viktig position inom tunnfilmsavsättningsteknologi, och dess höga renhet, goda stabilitet och specifika fysikaliska och kemiska egenskaper gör det till ett idealiskt val för att förbereda en mängd olika tunnfilmsmaterial. Dessa tunnfilmsmaterial har ett brett spektrum av tillämpningar inom optiska, elektroniska, magnetiska och andra områden.
4. Medicinskt område: yttriummål har viktiga tillämpningar inom strålmedicin, såsom en källa för röntgenstrålar och gammastrålar, diagnostisk bildbehandling (som CT-skanningar) och strålbehandling. Dessutom kan specifika isotoper av yttrium (som Y-90) också användas i radiofarmaka för riktad behandling av specifika cancerformer.
5. Kärnenergiindustrin: I kärnreaktorer används yttriummål som hävstångsmaterial för att kontrollera hastigheten och stabiliteten av kärnreaktioner på grund av deras utmärkta neutronabsorptionsförmåga.

Obs: Eftersom prestandakraven för yttriummål i olika applikationsområden kan vara olika, måste lämpligt mål väljas enligt den faktiska situationen i den specifika applikationen. (Såsom specifik renhet, sammansättningsförhållande, storlek, form, etc., anpassade enligt specifika krav.)

Produktionsteknik för yttriumförstoftningsmål?

1. Förbered yttriumpulver 2. HIP, pressgjutning 3. Högtemperatursintring 4. Efterföljande bearbetning (skärning, polering, etc.) 5. Rengöring och packning

Obs:Förutom ovanstående grundläggande steg, kan yttriumförstoftningsmål, beroende på den specifika beredningsmetoden och applikationsbehoven, även innefatta andra steg och teknologier, såsom förstoftningsmetoden, vakuumsmältningsmetoden, etc. Dessa metoder hjälper till att ytterligare justera och optimera målmaterialets prestanda och struktur.

Hur väljer man ett högkvalitativt sputtermål?

Följande listar de 7 viktiga faktorerna för att välja högkvalitativa sputtermål:

1.Hejgh renhet

Mål med hög renhet har bättre materialegenskaper och mer stabila fysikaliska och kemiska egenskaper, vilket är väsentligt för att säkerställa kvaliteten och prestandan hos förstoftande beläggningar. Specifika renhetskrav bör bestämmas enligt applikationsscenariot, vissa enkla applikationsscenarier behöver inte eftersträva ultrahög renhet, för att inte öka onödiga kostnader. Det som passar dig är bäst.

2.Stabilitet

Stabiliteten hos målet är lika viktig, vilket kan undvika materialförlust eller prestandafluktuationer under sputtering. Därför, i urvalet, väljer man den speciella behandlingen eller har god stabilitet på produkten.

3. Storlek och form

Storleken och formen på förstoftningsmålet bör väljas enligt de specifika kraven för beläggningsutrustningen för att anpassa sig till olika förstoftningsprocesser och produktionsbehov. Att se till att målet är anpassat till utrustningen ökar sputtringseffektiviteten och minskar avfallet.

4.Densitet

Densitet är en av de viktiga indikatorerna för att mäta kvaliteten på målmaterialet. Målmaterial med hög densitet kan säkerställa bättre sputtereffekt. När du väljer bör du vara uppmärksam på densitetsdata för målet och försöka välja produkter med högre densitet.

5. Bearbetningsnoggrannhet

Bearbetningsnoggrannheten för målet är också en av faktorerna som måste beaktas. I allmänhet måste bearbetningsnoggrannheten för målet vara inom ±0,1 mm för att säkerställa stabiliteten i sputterprocessen och enhetligheten i beläggningskvaliteten.

6.Särskilda krav

För vissa speciella tillämpningsscenarier, såsom behovet av hög ljustransmittans, låg absorption av målet (optisk beläggning) eller hög ledningsförmåga, bör målets hög stabilitet (elektroniskt fält) väljas enligt de specifika behoven hos motsvarande mål typ.

7.Välj en professionell tillverkare eller leverantör.