För närvarande monopoliseras nästan alla avancerade metallkopparmål med ultrahög renhet som krävs av IC-industrin av flera stora utländska multinationella företag. Alla ultrarena kopparmål som behövs av den inhemska IC-industrin måste importeras, vilket inte bara är dyrt, utan också komplicerat i importförfaranden. Därför behöver Kina omgående förbättra utvecklingen och verifieringen av kopparförstoftningsmål med ultrahög renhet (6N). . Låt oss ta en titt på nyckelpunkterna och svårigheterna i utvecklingen av kopparförstoftningsmål med ultrahög renhet (6N).
1、Utveckling av material med ultrahög renhet
Reningstekniken för högrena Cu-, Al- och Ta-metaller i Kina är långt ifrån den i industriländer. För närvarande kan de flesta av de högrena metallerna som kan tillhandahållas inte uppfylla kvalitetskraven för integrerade kretsar för sputtering av mål enligt de konventionella analysmetoderna för alla element i branschen. Antalet inneslutningar i målet är för högt eller ojämnt fördelat. Partiklar bildas ofta på skivan under sputtering, vilket resulterar i kortslutning eller öppen kopplingskrets, vilket allvarligt påverkar filmens prestanda.
2、Utveckling av målförberedande kopparförstoftningsteknik
Utvecklingen av förberedningsteknik för kopparförstoftning fokuserar huvudsakligen på tre aspekter: kornstorlek, orienteringskontroll och enhetlighet. Halvledarindustrin har de högsta kraven på förstoftning av mål och förångning av råmaterial. Den har mycket strikta krav för kontroll av ytans kornstorlek och kristallorientering av målet. Kornstorleken på målet måste kontrolleras till 100μ M nedan är därför kontrollen av kornstorleken och medlen för korrelationsanalys och detektion mycket viktiga för utvecklingen av metallmål.
3、Utveckling av analys ochtestning teknologi
Den höga renheten hos målet innebär minskning av föroreningar. Tidigare användes induktivt kopplad plasma (ICP) och atomabsorptionsspektrometri för att bestämma föroreningar, men på senare år har glödurladdningskvalitetsanalys (GDMS) med högre känslighet gradvis använts som standard metod. Resistansförhållandet RRR-metoden används huvudsakligen för bestämning av elektrisk renhet. Dess bestämningsprincip är att utvärdera renheten hos basmetall genom att mäta graden av elektronisk spridning av föroreningar. Eftersom det är för att mäta resistansen vid rumstemperatur och mycket låg temperatur är det enkelt att ta siffran. Under de senaste åren, för att utforska essensen av metaller, har forskningen om ultrahög renhet varit mycket aktiv. I det här fallet är RRR-värdet det bästa sättet att utvärdera renheten.
Posttid: maj-06-2022