Grossistförstöring av CrAl-legeringsmål med hög renhet tunnfilm PVD-beläggning Specialtillverkad tillverkare och leverantör

Krom aluminium

CrAl Legering Sputtering Mål Hög renhet tunnfilm PVD-beläggning Custom Made Featured Image

Kort beskrivning:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	CrAl
Sammansättning	Krom aluminium
Renhet	99,7 %，99,9 %，99,95 %，99,99 %
Form	Plattor, kolumnmål, bågkatoder, specialtillverkade
Produktionsprocess	Vakuumsmältning, PM
Tillgänglig storlek	L≤2000mm, B≤200mm

Skicka e-post till oss

Produktdetaljer

Produkttaggar

Tillverkningen av förstoftningsmål för kromaluminium omfattar följande steg:

1. Pulvermalning och blandning.

2. Varm isostatisk pressbehandling för att få halvfabrikat.

3. Bearbetning av det grova materialet för förstoftning av kromaluminiumlegering för att erhålla målmaterialet för förstoftning av kromaluminiumlegering.

Under deponeringsprocessen av CrAl-förstoftningsmål bildas en hård aluminium-krom-nitrid (AlCrN) beläggning. Denna beläggning uppvisar höga hårdhets- och oxidationsbeständighetsegenskaper även vid hög temperatur. Fräsarna kunde köras med hög matning för att öka produktiviteten och höja kvaliteten när man använder CNC-maskiner.

Våra typiska AlCr-mål och deras egenskaper

	Cr-70Alpå%	Cr-60Alpå%	Cr-50Alpå%
Renhet (%)	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95
Densitet(g/cm³）	3.7	4.35	4,55
Gregn Storlek(µm)	100/50	100/50	100/50
Behandla	HÖFT	HÖFT	HÖFT

Rich Special Materials specialiserar sig på tillverkning av Sputtering Target och kan producera aluminiumkromförstoftningsmaterial enligt kundernas specifikationer. Våra produkter har utmärkta mekaniska egenskaper, homogen struktur, polerad yta utan segregation, porer eller sprickor. Kontakta oss för mer information.

Tidigare: CoFe Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nästa: AlSi-legering Sputtering Mål Hög renhet tunnfilm PVD-beläggning specialtillverkad