Borongan TiSi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier

Titanium Silikon

TiSi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	TiSi
Komposisi	Titanium Silikon
Kasucian	99,7%, 99,9%, 99,95%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	Lebur vakum, PM
Ukuran sadia	L≤2000mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Video

Titanium Silicon Sputtering Target Pedaran

Lapisan Nitride super-teuas bisa kabentuk nalika Titanium Silicon digabungkeun jeung gas Nitrogén salila prosés déposisi. Unsur Silicon hadir ensures kabiasaan lalawanan oksidasi tinggi, bari titanium - karasa. Éta tiasa nunjukkeun sipat résistansi ngagem anu saé sanajan dina suhu anu luhur. Alat motong disimpen ku palapis TiSiN idéal pikeun-speed tinggi na panggilingan teuas, utamana dina motong garing, sarta bisa nungkulan sababaraha alloy super, kawas alloy nikel jeung titanium basa.

Target TiSi has urang jeung sipat maranéhanana

	Ti-15Sidi%	Ti-20Sidi%	Ti-25Sidi%	Ti-30Sidi%
Kamurnian (%)	99.9	99.9	99.9	99.9
Kapadetan(g/cm³）	4.4	4.35	4.3	4.25
Ghujan Ukuran(µm)	200/100	100	100	100
Prosés	VAR/HIP	HIP	HIP	HIP

Pausahaan urang gaduh sababaraha taun pangalaman manufaktur sputtering target pikeun alat motong kapang. Ti-15Si di%, fabricated ku lebur vakum, boga struktur homogen, purity tinggi na kandungan gas low. Sajaba ti éta, urang ogé nyadiakeun Ti-15Si di%, Ti-20Si di% jeung Ti-25Si di% dihasilkeun ku cara maké metallurgy kakuatan. Target TiSi kami gaduh sipat mékanis anu saé, ngajantenkeun aranjeunna henteu rentan ka retakan sareng gagalna struktural.

Titanium Silicon Sputtering Target bungkusan

Target sputter Titanium Silicon kami jelas ditandaan sareng dilabélan sacara éksternal pikeun mastikeun idéntifikasi efisien sareng kontrol kualitas. Perhatian hébat dilaksanakeun pikeun ngahindarkeun karusakan anu tiasa disababkeun nalika neundeun atanapi transportasi.

Meunang Kontak

Target sputtering Titanium Silicon RSM nyaéta kamurnian ultra luhur sareng seragam. Éta sadia dina sagala rupa wangun, purities, ukuran, jeung harga. Urang ngahususkeun dina ngahasilkeun purity tinggi bahan palapis film ipis jeung kinerja alus teuing ogé kapadetan pangluhurna mungkin jeung ukuran séréal rata pangleutikna mungkin pikeun dipaké dina palapis kapang, hiasan, bagian mobil, low-E kaca, semi-konduktor sirkuit terpadu, film ipis. résistansi, tampilan grafis, aerospace, rékaman magnét, layar rampa, pilem ipis batré surya sarta déposisi uap fisik lianna. (PVD) aplikasi. Mangga kirimkeun kami hiji panalungtikan pikeun harga ayeuna on sputtering target jeung bahan déposisi séjén teu didaptarkeun.