Borongan TiAlSi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier

Titanium Aluminium Silicon

TiAlSi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	TiAlSi
Komposisi	Titanium Aluminium Silicon
Kasucian	99,5%, 99,9%, 99,95%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	PM
Ukuran sadia	L≤2000mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Pedaran

Titanium Aluminium Silicon sputtering target ieu fabricated ku cara maké kakuatan metallurgy.
Titanium Aluminium Silicon alloy dina conventionally dipaké dina manufaktur mesin otomotif. Éta gaduh kasesuaian suhu luhur anu saé sareng résistansi ngagem. Aplikasi tina alloy Ti-Al-Si tiasa sacara signifikan manjangkeun umur komponén mesin sakitar 35%. Sedengkeun pikeun aplikasi na di motor jeung kabayang otomotif, éta némbongkeun castability hadé, machinability, résistansi kacapean sarta dampak kateguhan ti A356 Aluminium.

A alloy aluminium gancang solidified bisa dimeunangkeun ku prosés solidification gancang disebut "lebur spinning", nu dibangkitkeun sipat unggul dibandingkeun jeung alloy aluminium konvensional, bareng jeung microstructure fine-grained tur leuwih kalenturan dina alloying. Ieu mangrupakeun bahan poténsial dina industri pesawat pikeun ngaganti titanium alloy basa dipaké dina 150-300 ℃.

Salila prosés déposisi target TiAlSi, TiAlSi / TiAlSiN bisa kabentuk individual salaku multi-lapisan lapisan kristalin kualitas luhur kalawan struktur lolobana kubik. Palapis multi-lapisan ieu parantos ngadamel bahan-bahan ieu pikeun palapis keras pikeun ningkatkeun umur instrumen anu dianggo pikeun lingkungan anu parah.

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target bungkusan

Target sputter Titanium Aluminium Silicon kami jelas ditandaan sareng dilabélan sacara éksternal pikeun mastikeun idéntifikasi efisien sareng kontrol kualitas. Perhatian hébat dilaksanakeun pikeun ngahindarkeun karusakan anu tiasa disababkeun nalika neundeun atanapi transportasi.

Meunang Kontak

Target sputtering Titanium Aluminium Silicon RSM nyaéta kamurnian ultra luhur sareng seragam. Éta sadia dina sagala rupa wangun, purities, ukuran, jeung harga. Urang ngahususkeun dina ngahasilkeun purity tinggi bahan palapis film ipis jeung kinerja alus teuing ogé kapadetan pangluhurna mungkin jeung ukuran séréal rata pangleutikna mungkin pikeun dipaké dina palapis kapang, hiasan, bagian mobil, low-E kaca, semi-konduktor sirkuit terpadu, film ipis. résistansi, tampilan grafis, aerospace, rékaman magnét, layar rampa, pilem ipis batré surya sarta déposisi uap fisik lianna. (PVD) aplikasi. Mangga kirimkeun kami hiji panalungtikan pikeun harga ayeuna on sputtering target jeung bahan déposisi séjén teu didaptarkeun.

saméméhna: TiAlV Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Teras: TiAl Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun